Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9356928 à vendre en France
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ID: 9356928
Taille de la plaquette: 8"
PECVD System, 8"
(3) Chambers
Process: TEOS, TEB, TEPO
Throttle valve, P/N: 0010-76174
SACVD Gas box
Pressure transducer, P/N: 122BA-01000EB-S
Transducer, P/N: 627A-13267
Mass Flow Controller (MFC), P/N: LF-310A-EVD
Gases: N2, O2, NH3, He
(3) Lamp assemblies, P/N: 0010-09978
(3) RF Match assemblies, P/N: 0010-09750
(3) 5000 / 5200 CVD C-Plug throttle valves, P/N: 0010-37151
Remote control liquid injector, P/N: 0010-09886
ASTEX AX8200 Ozone generators:
(2) AX8200A-CE, P/N: 0190-35870
AX8200A, P/N: 0190-09437
(3) ENI OEM-12B RF Generator, 1250 W
(3) ADCS Gas box and controllers
(3) ADCS A1 Signal interface modules
(3) ADCS Automatic purge controllers
(3) ADCS BRC 22A Integrated refill controllers
(3) ADCS 969 Low level monitors
Ozone generator rack
Gas, shower head box
Cables.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II L'équipement du réacteur est un réacteur de pointe conçu pour la production de semi-conducteurs. Le réacteur AMAT P5000 Mark II est idéal pour tout ce qui va du dépôt en couches minces au traitement à la gravure. Avec une variété de chambres de procédés, le réacteur Mark II peut atteindre le parfait équilibre entre précision et performance. Équipé de fonctionnalités avancées, telles que l'uniformité thermique, le contrôle de pression et un sous-système électronique à faible coût, le réacteur Mark II offre à l'utilisateur une expérience de dépôt et de gravure de qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 MARK II contient une caractéristique unique connue sous le nom de chambre multi-processus à double faisceau (DBMPC). Cette chambre est une chambre multifonctionnelle capable de combiner deux processus de source de faisceau atomique dans une seule chambre. Ceci offre à l'utilisateur la souplesse nécessaire pour effectuer à la fois des opérations de dépôt et de gravure au sein d'une seule chambre. Le réacteur Mark II utilise une sous-unité électronique peu coûteuse pour permettre un contrôle précis de la température du substrat dans l'environnement de la chambre. La machine est capable d'atteindre des températures de 600 ° C, avec une uniformité de température de 1 % sur l'ensemble du substrat. L'uniformité de température est améliorée par un outil de vide efficace, maintenant la pression de la chambre basse et stable. Le réacteur Mark II est équipé d'un programme avancé de mélange des gaz de procédé. Le programme de mélange contrôle le temps, le débit, la pression et la température afin d'obtenir les résultats souhaités. Cette fonctionnalité permet un contrôle précis des processus, permettant de faire des processus avec un niveau extrêmement élevé de précision et de répétabilité. Le réacteur Mark II est également conçu avec un atout de sécurité pour protéger l'utilisateur et l'équipement. Le modèle de sécurité comprend plusieurs capteurs de sécurité, capteurs de température et emboîtements pour assurer la sécurité des utilisateurs et la fiabilité des équipements de fonctionnement. AMAT P 5000 MARK II L'équipement de réacteur est un choix idéal pour la production de semi-conducteurs. Avec des caractéristiques avancées, un contrôle précis de la température, un mélange avancé des gaz de procédé et un système de sécurité, le réacteur Mark II n'est pas une surprise pour les utilisateurs de l'industrie des semi-conducteurs.
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