Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9365936 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un type d'outil de traitement du plasma conçu pour des applications telles que la gravure, le dépôt et le dépôt physique en phase vapeur. Cet équipement autonome et autonome est capable de supporter une variété de procédés plasmatiques dans une seule chambre, permettant un processus de production simplifié. AMAT P5000 Mark II permet de modifier rapidement et efficacement les propriétés des semi-conducteurs et d'autres matériaux grâce à des techniques de traitement plasma, permettant un prototypage rapide et une fabrication rapide de composants personnalisés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II est un système avancé de traitement du plasma. Il utilise une combinaison unique et exclusive de double source de douche et de conception de module source de plasma breveté pour générer un plasma RF haute densité pour une large gamme d'applications de traitement. Les caractéristiques de l'unité comprennent à la fois des environnements sous vide contrôlés par processus et des technologies automatisées de traitement du plasma. La machine se compose d'une chambre principale, chambre de processus, et contrôleur dédié. La chambre principale est une enceinte cylindrique en acier inoxydable, mesurant 180 cm (71 po) de diamètre et 371 cm (146 po) de longueur. Cela permet d'utiliser un large éventail de paramètres de traitement. La chambre de procédé est à l'intérieur de la chambre principale, et peut accueillir divers composants pour le traitement. Tout le traitement par plasma est effectué dans la chambre de procédé. Le contrôleur dédié exploite l'outil de recette de processus de type cluster, permettant une adéquation efficace et efficiente des conditions de processus aux besoins de l'application. Ce contrôleur gère également la source de plasma, permet des dépôts programmés manuellement ou automatisés, et assure le contrôle des paramètres du processus de chauffage du substrat, de refroidissement et de détection du point final, ainsi que la fourniture d'une variété de systèmes de détection et de rétroaction tout au long du processus. P 5000 MARK II actif est capable de manipuler toutes les tailles de matrices jusqu'à une pièce de 15 × 15 pouces (38 × 38 cm). Il peut également manipuler des substrats jusqu'à 300 mm (12 po) d'épaisseur. En outre, le modèle entièrement automatisé offre une intégration avancée des processus, le meilleur générateur de puissance RF et le support des processus, et des outils logiciels conçus pour optimiser le processus de production et obtenir des résultats optimaux. AMAT P 5000 MARK II est un équipement avancé de traitement du plasma conçu pour répondre aux besoins d'une large gamme de procédés de gravure, de dépôt et de dépôt physique en phase vapeur. Avec son système convivial et puissant, APPLIED MATERIALS P5000 Mark II offre une efficacité, une fiabilité et des performances accrues, permettant un prototypage rapide et la fabrication rapide de composants personnalisés avec des techniques de traitement du plasma.