Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9389398 à vendre en France
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ID: 9389398
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1995
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Hard Disk Drive (HDD) Flush type
FDD, 3.5"
Cassette indexer
Electrical controller
Elevator type: 8-Slots, 6"
(2) CRT Monitors, 17"
(4) Chopper driver power packs
(2) Opto I/O BD
Buffer I/O BD
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
I/O Sensor
I/O Door
Vacuum sensor
Cap wafer sensor
Slit valve
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
VME Controller
Stepper control BD
EMO Option: Turn to release
EMO Button guardrings
Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green
Signal cable: 25"
Flash hard disk drive
Floppy: 3.5" SCSI Driver
(3) ENI OEM-12A RF Generators
HX Seperate mani fold
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-02
Chamber B: OEM12B-07
Chamber C: OEM12B-07
Electrical controller:
(2) TC Gauge boards
Power rack, 12 VDC; (2) 15 VDC
Buffer I/O board
(2) Opto I/O boards
(4) Chopper driver power racks
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
Water lift type: Ceramic hoop
(3) Pumping plates
(3) Ceramic focus rings
(3) Shower heads
(3) Blocker plates
(3) Heater windows
(3) Bellow susceptors, 6"
(3) Bellows water lifts, 6"
(3) Lamp drivers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: UFC 1660
Manual valve: BENKAN
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
VME Controller:
1 / SBC Board
2 / SV21 SBC Board
3 / SEI Board
4-5 / -
6 / VGA
7 / AO-1
8 / AI-1
9-12 / Stepper control board
13-16 / Digital I/O board
17-20 / -
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur semi-conducteur Mark II est un équipement de photorésistance à moyenne tension conçu pour fournir des performances élevées, fiables et contrôlables. C'est un système entièrement automatisé qui permet un contrôle serré du processus de lithographie pour obtenir une formation étanche de capsule de libération de médicament sur des substrats tels que des plaquettes de silicium. L'unité AMAT P5000 Mark II est capable d'exécuter plusieurs processus simultanément et est conçue de manière à assurer une utilisation maximale des ressources avec des coûts d'exploitation faibles. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 MARK II présente une conception à trois chambres, qui comprend la chambre principale, la chambre latérale supérieure et la chambre latérale inférieure. P 5000 MARK II est capable d'une gamme d'étapes de traitement de photorésist, y compris l'oxyde thermique thermique thermique et réactif, les chimies organométalliques, l'uniformité de grande surface jusqu'à moins de 10 nanomètres, et la gravure chimiquement améliorée. Le réacteur AMAT P 5000 MARK II a un débit allant jusqu'à 5 millions de wafers/h et est capable de connecter jusqu'à 4 P5000 de systèmes réacteurs pour des opérations de lithographie multi-processeurs. P5000 Mark II est équipé d'un grand nombre de composants matériels et logiciels dédiés qui permettent un contrôle serré des processus, permettant une précision extrême. La machine est basée sur une architecture de contrôle distribuée avec des processeurs redondants, assurant une grande disponibilité de l'outil. Il est également livré avec une interface utilisateur graphique avancée, capable d'afficher les résultats détaillés du processus sous forme de graphiques et de diagrammes. En conséquence, il fournit un outil complet pour aider les lithographes dans la sélection des processus et les optimisations. Il est équipé d'une gamme de composants de métrologie avancés pour fournir un contrôle exact du processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Le réacteur Mark II est également livré avec un certain nombre de systèmes de protection dédiés, qui aident à assurer un environnement de fonctionnement sûr. Par exemple, l'actif comprend un modèle de protection de l'EDD qui aide à protéger les personnes et les équipements contre les décharges électrostatiques. De plus, l'équipement dispose d'un système intégré de verrouillage de sécurité qui aide à réduire le risque d'environnement de travail dangereux causé par une défaillance inattendue des composants. En outre, l'unité est équipée de moniteurs qui alertent l'utilisateur de toute défaillance potentielle et lui permettent de prendre les mesures correctives appropriées. En résumé, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est une machine de traitement des semi-conducteurs puissante et fiable. Il est équipé d'une gamme de caractéristiques sophistiquées, associées à des caractéristiques de sécurité avancées, qui garantissent des performances élevées et des résultats de traitement ultra-précis. Il offre une solution complète et automatisée pour obtenir une formation étanche de capsule de libération de médicaments sur des substrats tels que des plaquettes de silicium.
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