Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9398766 à vendre en France
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Vendu
ID: 9398766
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2005
Etcher, 8"
Robot: P5000 std robot, 8"
(3) Chambers (A, B, C)
Type: M Chuck
Throttle valve type
ALCATEL Turbo
Turbo controller:
NT340M
(2) CFF 450
0010-09416 RF Matcher
Orienter chamber: D
OEM 12B-02 AC Rack generator
Gas box:
MFC: STEC 4400
Nupro manual valve
Pneumatic diaphragm valve: Nupro
Sub module:
(2) AMAT-0 Heat exchangers
HX-150 Chiller
P/N: 0010-76036 Mini controller
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un outil avancé de traitement des semi-conducteurs conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur utilise un plasma inductif couplé (PIC) pour former le procédé de gravure du plasma. Un PIC est un courant alternatif (AC) dans lequel des ions, des électrons et d'autres particules forment un plasma lorsqu'ils sont excités. Ce plasma crée un champ électrique intense, qui conduit à des réactions chimiques accélérées et à la gravure du matériau. Le réacteur AMAT P5000 Mark II est composé d'une serrure de charge exclusive avec une plage de température de 20 ° -200 ° C et un écran LED haute résolution pour fournir un retour de température en temps réel. Le système comporte également des diagnostics d'échantillons et des capacités de surveillance en temps réel pour assurer l'exactitude et la performance des échantillons. Ce réacteur est conçu pour maintenir un plasma uniforme lors de la gravure, ce qui est rendu possible par un égaliseur automatique de longueur d'onde haute tension pour assurer une source de plasma stable. C'est un facteur important pour créer des pièces fiables et cohérentes pendant la gravure, car la longueur d'onde du plasma peut varier en fonction de la puissance, du débit de gaz et de la pression. Une chambre à fenêtre unique et 6 sources de plasma à couplage inductif refroidi par N2 améliorent la précision et la répétabilité pour améliorer le débit. Ce réacteur offre également un fonctionnement optionnel monobloc pour le traitement des matériaux de production et de prototypage. Pour accroître l'efficacité du système, une équipe d'ingénieurs AMAT expérimentés peut effectuer le réglage RF et le dépannage, ainsi que proposer des services d'optimisation et de développement de processus. Il existe également une série de logiciels d'assistance pour soutenir le développement de processus, l'automatisation et la surveillance de ce système. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 MARK II est capable de fabriquer des dispositifs semi-conducteurs avec un seul procédé de wafer de manière répétable et reproductible, ce qui est essentiel pour obtenir des produits fiables et rentables. En conséquence, P5000 Mark II, est un outil idéal pour la fabrication industrielle de tous les types de dispositifs semi-conducteurs.
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