Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9401169 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur haute performance développé par AMAT pour permettre la recherche avancée, le développement et la production de films minces avancés et d'autres matériaux micro-structurés. Il offre des contrôles de précision pour permettre l'optimisation du processus de dépôt, y compris la fluence de l'énergie laser et le contrôle du temps de séjour. AMAT P5000 Mark II offre une combinaison puissante de technologie de pointe et d'ingénierie, permettant des caractérisations de films minces sans précédent. Le réacteur est équipé d'un microscope électronique à balayage pour des progrès dans la mesure de l'épaisseur des couches minces, ainsi que d'un spectromètre optique pour mesurer la concentration des espèces dominantes dans le matériau déposé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 MARK II combine une chambre ultra propre avec un système de distribution de gaz efficace pour assurer un excellent contrôle des conditions de surface et de la vitesse de dépôt. Le réacteur dispose également d'un système informatique embarqué très efficace qui permet de stocker plusieurs paramètres de traitement et d'optimiser les processus de dépôt. Les dimensions des matériaux appliqués P5000 Mark II sont de 46,5 cm de long, 31,7 cm de large et 22,9 cm de haut, avec un volume de chambre de 45,3 litres. Il dispose d'une plage de pression de processus de 5,33 - 6,65 x 10-5 Torr, et d'une fréquence de travail variable allant de 4 kHz à 14 GHz. La plage de température du réacteur est de 100 ° C à 950 ° C, avec une stabilité maximale de température ± 1 ° C, et une uniformité optimale de la température du procédé ± 5 ° C La caractéristique principale de P 5000 MARK II est son contrôle de processus de dépôt de haute précision, permettant une caractérisation excellente et cohérente des couches minces. Le taux de dépôt élevé et l'excellente uniformité permettent également de réduire considérablement les temps de dépôt et d'accroître la productivité. En outre, P5000 Mark II est conçu pour une intégration facile avec des outils supplémentaires du système Applied Materials, tels que des sources de plasma, des moniteurs à couches minces, des analyseurs de gaz et des systèmes de détection de particules. Cela permet de contrôler de bout en bout le processus du substrat au produit fini. Globalement, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II est un réacteur ultra-propre et efficace pour le dépôt et la caractérisation de couches minces, offrant des performances supérieures en couches minces et une excellente couverture de substrat dans une variété d'applications de traitement de matériaux.