Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9402055 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9402055
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
CVD System, 8"
Process: PE SiH4 Oxide / Nitride
Clamp cassette indexer
HDD: SSD Type
FDD: SCSI, 3.5"
Elevator type: 8 Slots, 8"
Robot type: AMAT Standard
Blade: Standard, 8"
I/O Sensor and door
Center finder
Vacuum sensor
Standard slit value
Fore line
Signal tower: R / Y / G / B
Standard AC Rack
ENI OEM-12B-07 RF Generator
(3) RF Matching network
Heater exchanger
Does not include pump
Remote AC rack
Heat Exchanger: AMAT-1
Mini controller
POU Filter
Throttle valve: Cluster
Isolation valve: Nor-Cal
Lamp driver
Process chamber:
(3) Chambers: A, B, C
Type: DLH One-hole standard
CERAMIC Hoop wafer lift type
Heater: Lamp type
Lid assembly: O-Ring
Susceptor missing
Process kit:
Heater window
Lamp
Lift pin
Susceptor / Wafer lift bellows
Water Flow Switch:
A and B (modified)
C-Proteus switch
Gas panel:
Type: Standard
MFC: STEC
PNEUMATIC Value: Nupro
Manual shut off
Gas: SiH4 / N2O / NH3 / CF4 / C3F8 / C2F6 / He / N2
Chamber A:
Gas / MFC
N2 / 1000
N2 / 300
O2 / 20
N2 / 3000
N2 / 1000
N2 / 500
Chamber B:
Gas / MFC
N2 / 1000
N2 / 300
N2 / 300
O2 / 20
N2 / 1000
SiH4 / 500
Chamber C:
Gas / MFC
N2 / 1000
N2 / 1000
Ar / 100
N2 / 3000
N2 / 1000
N2 / 5000
Main DC power supply
VME DC power supply
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur Mark II est un équipement généralisé de production de dispositifs semi-conducteurs conçu pour répondre à un large éventail d'applications à haut volume, y compris celles nécessitant à la fois des caractéristiques de pureté élevée et de dépôt à basse température. AMAT P5000 Mark II est hautement personnalisable, ce qui permet aux utilisateurs de l'adapter à un certain nombre d'exigences de processus différentes. Il dispose de sources de faisceaux d'électrons rotatifs à grande vitesse et de capacités de balayage avancées, permettant des vitesses de production rapides. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 MARK II dispose également de systèmes avancés de gestion des gaz et des produits chimiques, garantissant que les ingrédients sont dosés avec précision et que les sous-produits réactifs sont enlevés rapidement et en toute sécurité. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II dispose d'un contrôleur embarqué puissant, permettant aux utilisateurs de programmer des processus sophistiqués à partir d'une interface facile à utiliser. Une gamme de capacités de contrôle de la température assure la plus haute qualité possible du produit lors de la fabrication des plaquettes. Le système de contrôle comprend des capacités de surveillance d'alarme, permettant aux utilisateurs de maintenir leurs appareils en bon état avec un temps d'arrêt minimal. AMAT P 5000 MARK II comprend également des capacités avancées de surveillance et d'enregistrement des données, permettant de surveiller les paramètres intégrés tout au long du processus. P 5000 MARK II fournit une variable de distance à wafer (DTWV) très flexible, permettant de configurer jusqu'à cinq réglages de distance distincts sur une seule tête de réacteur. Cela signifie que les utilisateurs peuvent facilement dimensionner leur installation de fabrication de plaquettes sans avoir à acheter plusieurs réacteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II peut également être configuré avec une large gamme d'options physiques, telles que des supports robotiques et des boîtiers personnalisés. P5000 Mark II est une unité de production d'appareils fiable et puissante. Ses capacités technologiques de pointe en font la solution parfaite pour les processus à haut volume avec des exigences exigeantes. Il peut facilement être configuré pour répondre aux besoins spécifiques des applications industrielles, avec les niveaux nécessaires de contrôle, de surveillance et d'enregistrement des données. Avec sa machine de commande intégrée robuste et son évolutivité facile, AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est une solution fiable et avancée de production de dispositifs semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques