Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9411664 à vendre en France
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ID: 9411664
Taille de la plaquette: 6"
Poly etcher, 6"
Hard Disk Drive (HDD) SDD Flash hard
Floppy Disk Dive (FDD), 3.5"
Storage elevator: 8-Slots
Cassette indexer: Standard clamp type
(3) Chambers
Process chamber: ABD, PE-TEOS
(3) Baratron gauges: MKS 627A, 20 Torr
(3) Chamber body: One hole chambers, 8"
Lid assembly, 8"
Standard robot blade
(3) ENI OEM 12B RF Generators
(3) Gas panels
NUPRO/FUJIKIN Pneumatic/Shut-off valve
(3) RF Matchers standard
(3) Slit valves standard
(3) Throttle valves, C-plug
(3) Susceptors P-chuck, 6-8"
(3) Process kits, 8"
Lift assembly
O-Ring
(42) Lamps
Mini controller
Remote AC Rack standard type
Remote AC Rack to MF cable, 55 feet
Remote monitor cable, 25 feet
Pump/Heat exchanger cable, 25 feet
AMAT-0 Heat exchanger
Heat exchanger water hose color flex, 55 feet
(3) TEOS Delivery line heaters
(3) TEOS G-Plis
LF 410A-EVD / IV-2410-02H
(2) HORIBA Z512 / GF 100
N2, (5) SLM / O2-s (3) SLM / He 5000 SCCM / C2F6 500 SCCM
(2) LCD Touch / Light pen monitors
(2) Monitor racks.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II est un réacteur largement utilisé, conçu pour le traitement de matériaux semi-conducteurs avancés. L'équipement se compose d'une chambre de procédés, d'une pompe, d'un dispositif de chauffage et d'un système de contrôle des gaz, qui lui permettent d'atteindre une large gamme de températures de procédés et de flux de gaz avec précision et précision. La chambre de procédé est en acier inoxydable et dispose de deux sorties de 8 pouces pour les conduits d'échappement de gaz et de pompe. Les flux de gaz sont contrôlés par trois conduites de gaz indépendantes et peuvent être configurés pour une large gamme de pressions et de débits. La chambre est également équipée d'une fenêtre de processus permettant de visualiser l'échantillon et de contrôler le mouvement des plaquettes. Le chauffage, par contre, est conçu pour fournir une grande uniformité et précision, et maintenir des températures stables et précises pendant le processus. Il est équipé d'un four à quartz, qui maintient la température désirée plus précisément que les chauffages classiques. La pompe est capable de fournir un vide très élevé et peut contrôler la pression avec précision. La plage de commande de la pompe est de 0,1 à 10 Torr, et il a une pompe turbo moléculaire refroidie à l'eau pour les opérations à faible vide. L'unité de contrôle des gaz est utilisée pour le contrôle des gaz de procédé. Il se compose de régulateurs de débit massique, qui contrôlent la quantité de gaz alimentés, de vannes de commutation et de dérivation de gaz, et de régulateurs de pression. La machine est également équipée de plusieurs mesures de sécurité, telles qu'un moniteur de sécurité et un interrupteur d'arrêt d'urgence. Cela garantit un fonctionnement sûr et protège l'équipement et l'utilisateur de toute situation dangereuse. Globalement, AMAT P5000 Mark II est une chambre de procédés fiable et fiable, capable de réaliser une large gamme de procédés semi-conducteurs. Il est capable de contrôler avec précision les températures, les pressions et les débits, et de fournir un environnement de travail sûr.
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