Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark ll #9186958 à vendre en France

AMAT P5000 Mark 11 est un réacteur de gravure de haute performance, abordable et fiable utilisé pour fabriquer des films minces pour des applications semi-conductrices et d'autres applications optoélectroniques. C'est une solution tout-en-un éprouvée et fiable pour une large gamme d'applications de gravure d'oxyde, de nitrure et de métaux. Il peut être utilisé pour la gravure de métaux, d'oxydes, de nitrures et d'autres matériaux diélectriques sans motifs. La machine est entièrement automatisée avec du matériel et des logiciels intégrés de pointe qui permettent une gravure à grande vitesse et des rendements de processus élevés. APPLIED MATERIALS P5000 Mark 11 comprend un certain nombre de composants clés, dont un générateur RF, des câbles de gravure RF et ICP, une chambre de pose de plaquettes de chargement latéral, un système de pression transparent et une suite logicielle avancée. Le générateur RF est capable de fonctionner jusqu'à 50kW de puissance RF jusqu'à 200MHz en fréquence. Les câbles de gravure RF et ICP permettent un contrôle et une optimisation supplémentaires des gravures. La chambre de placement des plaquettes de chargement latéral maximise le débit en petits, moyens et grands lots de plaquettes tout en assurant un placement et une orientation cohérents des plaquettes. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark 11 utilise un système de pression transparent unique (TPS) qui est capable de réaliser des processus de gravure réactifs et non réactifs dans un environnement continu à chambre unique, éliminant le besoin de plusieurs chambres et le transfert manuel de plaquettes. Le TPS permet également un contrôle précis de la pression pour assurer le contrôle et la répétabilité des processus. La suite logicielle intégrée comprend une interface utilisateur graphique basée sur Windows qui fournit aux utilisateurs des performances puissantes, des informations de processus, et la fiabilité. AMAT P5000 Mark 11 est un choix idéal pour les applications de fabrication d'IC et d'optoélectronique telles que la production de semi-conducteurs composés, de couches minces pour cellules solaires et de MEMS, entre autres. Sa grande vitesse, sa rentabilité et sa fiabilité en font un excellent choix pour la gravure des métaux, des oxydes et des nitrures. La suite logicielle fournit aux utilisateurs un ensemble complet d'outils pour surveiller le processus de gravure et optimiser les résultats du processus.