Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181092 à vendre en France
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Vendu
ID: 181092
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Poly etch system, 8"
Specifications:
Wafer Diameter: 8"
Process: 42 Poly
Software Version: L4.70B
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: 2 Cassette Handler / 29-Slots Storage
ESC Type: Electrostatic
1Torr Manometer: MKS 127AA-00001B
Chamber Dry pump model and size: Ebara A70W
Loadlock Dry pump model and size: Ebara A10S (sharing between chamber A/B)
Turbo pump model and size: Seiko Seiki 301CB1
Turbo pump controller: SCU-21D
Cathode Chiller model: AMAT Neslab HX150
Wall Chiller model: AMAT Steelhead 1 CHX (sharing between chamber A/B)
EP system: Monochrometer
Heater Stack/Gate valve: Standard
RF generator model: ENI OEM-12B
RF match model: Hybrid RF Match
IHC manometer: 10 Torr Manometer
IHC mfc size: 20 sccm
High Voltage Module: Chuck
Process Configuration:
Chamber Position 1 / Etch Chamber A:
Chemicals/Gases used: CHF3 HBr NF3 O2 HeO2 CF4 Ar Cl2
Chamber Position 2 / Etch Chamber B:
Chemicals/Gases used: CHF3 HBr NF3 O2 HeO2 CF4 Ar Cl2
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP est un réacteur de gravure à plasma de grande capacité, conçu pour être utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Il s'agit d'un équipement de gravure à plasma haute densité (HDP) monobloc, conçu pour une gravure de débit et de précision maximales. AMAT P5000 MxP dispose d'une chambre de processus configurée en plusieurs étapes, ce qui lui permet de fournir le profil de gravure optimal pour une variété d'applications. La chambre de serrure et de transfert offre un débit élevé tout en garantissant que le processus de gravure est très reproductible. Le système automatisé de traitement des gaz à bord fournit également un débit de gaz constant tout au long du processus de gravure, tandis que deux sources de plasma permettent une gravure à haute fidélité. La puissance puissante de la source couplée à l'unité efficace de contrôle du débit en boucle fermée fournit un processus de gravure fiable qui produit les résultats souhaités de manière cohérente et précise. La grande taille de la plaquette (jusqu'à 10 ") améliore le débit et rend les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 MxP rentables pour une production à grande échelle. La machine automatisée de contrôle et de surveillance des processus permet également d'assurer un processus de gravure sûr. L'outil peut être utilisé pour la gravure d'un large éventail de matériaux, des métaux aux films diélectriques. En outre, il convient à la gravure des MOSFET, BJT, et les appareils MEMS. Il est également conçu pour s'assurer que les pièces sont gravées sans dommages dus à la surgravure ou à la sous-gravure. Pour garantir des opérations fiables, P5000 MxP est équipé de diagnostics pour surveiller les performances de l'outil. Il comprend également une fourniture de pièces de rechange et d'emboîtements de sécurité afin de protéger l'outil et son fonctionnement en cas de panne inattendue. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP est un réacteur de gravure à plasma efficace, fiable et économique, idéal pour la production de divers composants semi-conducteurs et d'autres matériaux délicats. Il offre un haut niveau de contrôle de processus et de débit élevé, tandis que son outil de contrôle automatisé permet de s'assurer que le processus de gravure est exécuté en toute sécurité et efficacement.
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