Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181093 à vendre en France
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Vendu
ID: 181093
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
Etch Chamber, 8"
Process: 50 and 55 spacer
Loading Configuration: 2 Cassette Handler/ 29 Slot Storage
System Power Rating: 208VAC 3-Phase
Software Version: L4.70B
Mainframe body
System AC power box
CRT monitor/Monitor Base/Light pen
ESC Type Electrostatic
1Torr Manometer MKS 127AA-00001B
Turbo pump model and size Seiko Seiki 301CB1
Turbo pump controller SCU-21D
Cathode Chiller model AMAT Neslab HX150
Wall Chiller model AMAT Steelhead 1 CHX
EP system Monochrometer
Heater Stack/Gate valve Standard
RF generator model ENI OEM-12B
RF match model Hybrid RF Match
IHC manometer 10 Torr Manometer
IHC mfc size 20 sccm
High Voltage Module Chuck
Etch Chamber A: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2
Etch Chamber B: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP est un équipement de traitement conçu pour permettre une flexibilité et des performances maximales sur une gamme d'applications par lots et monobloc. Le MxP est un système de réacteur doté d'une chambre de traitement automatisée qui comprend un loadlock multiport préinstallé, des éléments de chauffage électrostatiques et des éléments de chauffage des substrats, trois ports d'entrée/sortie pour les sources de gaz et de liquide et une série de composants de contrôle et de surveillance des processus. L'unité est équipée d'une machine de vision avancée pour le placement des plaquettes, ainsi que de commandes de mouvement pour la manipulation de précision du substrat. Le MxP fournit des films en phase solide à haute température et des interfaces pour une grande variété d'applications. Grâce à son processus thermique intégré en plusieurs étapes, le MxP réalise des processus de recuit et de diffusion. De plus, le MxP offre également des procédés avancés d'oxydation et de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Sa source de plasma permet la création de films de SiO2 amorphes, de films nitrurés plasmatiques et de films dopés au plasma. Le MxP utilise la surveillance des processus en temps réel, la manipulation automatisée des plaquettes et le développement intelligent de recettes pour garantir la précision des fonctionnalités des plaquettes. Son interface opérateur assure la visibilité et le contrôle de chaque étape du processus en permettant la révision et la sélection des recettes et des paramètres. L'environnement de la chambre est étroitement surveillé avec des paramètres de processus en temps réel, y compris la température, la pression, les niveaux plasmatiques et les gaz de processus. De plus, AMAT propose plusieurs autres solutions spécifiquement conçues pour améliorer les performances du MxP. Ces solutions comprennent des versions actuelles et à venir du réacteur MxP, ainsi que des solutions de processus clés en main qui soutiennent les capacités révolutionnaires du réacteur MxP. AMAT P5000 MxP est conçu pour fournir aux utilisateurs la capacité de maximiser les performances de l'appareil, leur permettant de profiter d'une large gamme de processus thermiques. Avec son contrôle précis de la température, ses outils de fabrication supérieurs et ses capacités de surveillance des procédés, le réacteur MxP est un choix idéal pour un large éventail d'applications.
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