Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #185395 à vendre en France
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Vendu
ID: 185395
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1994
Oxide etch system, 8"
(2) Chambers
Software Revision SBC Board Version V21
Mainframe cables Standard / Extended (length) STD
Chamber Location A / B / C / D: A/B
Safety Module
EMO Switch(2): Present
UPS & Power Vaccine
Remote Frame
Pump Control Interface: Present
Circuit Breaker: Present
EMO Switch: Present
Expanded VME
Monitor Rack
CRT Monitor: Absent
Light Pen: Absent
Service Monitor Rack: Absent
Miscellaneous
Harddisk: Present
Floppy Disk: Present
Transformer: Present
Gas Panel standard / Extended: Expanded
Laminar Flow Hood
Mainframe cover: Absent
Loadlock Chamber
Robot Type Phase III Robot: Phase III Type
Robot Blade: 8 Inch Blade
WPS: Installed
TC Gauge: Installed
ATM Switch: Installed
Vacuum Switch: Installed
Blade Chuck Vent Kit: Absent
Vacuum Sensor(TC): Installed
Storage Elv. Slots 8 or 29: 29
Wafer IO Sensor Present or Not: OK
Electronics (BD)
System Electronics
TC guage boards(2): Installed
+12 Vdc powersupply: Installed
+15 Vdc powersupply: Installed
-15 Vdc powersupply: Installed
Buffer I/O board: Installed
AI Mux board(1): Installed
Optical sensor boards(*2ea): Installed
Chopper driver boards (*4ea): Installed
Pneumatic Control PCB: Installed
Main DC Power Supply: Installed
ESC Controller Board: Installed
Chamber A
CVD: OXIDE
Chamber Type: MXP+
RF Match Box 0100-30686
Nv Module cesc: Yes
Epd controller: Yes
Gate valve: Yes
Cap manometer 1: Mks 1Torr
TC Gauge: Yes
Isolation V/V: STD
Throttle V/V Type: STD
Slit V/V: STD
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB
Turbo pump Controller: YES
Chamber B:
CVD: OXIDE
Chamber Type: MXP+
RF Match Box 0100-30686
Nv Module cesc: Yes
Epd controller: Yes
Gate valve: Yes
Cap manometer 1: Mks 1Torr
TC Gauge: Yes
Isolation V/V: STD
Throttle V/V Type: STD
Slit V/V: STD
Endpoint module: Monocromator
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB
Turbo pump Controller: YES
Gas Interface PCB: Gas Panel Interface/Expanded Gas Panel PCB
Solenoide V/V Module: STD/Expanded
Air V/V: FUJIKIN
Gas box A,B
MFC UNIT - 8160: CHF3 100SCCM
MFC UNIT - 8160: AR 200SCCM
MFC UNIT - 8160: CF 50SCCM
MFC UNIT - 8160: O2 10SCCM
MFC UNIT - 8160: N2 100SCCM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + est un équipement polyvalent de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) destiné à la recherche et au développement de structures et dispositifs de matériaux avancés. Ce système est adapté à diverses applications de R&D, telles que les semi-conducteurs composés, les nanomatériaux, les dispositifs de superlattrôle, les nanotubes de carbone monobloc, les nanowires et d'autres matériaux à couches bidimensionnelles. AMAT P5000 MxP + comprend deux chambres avec une unité de contrôle sous vide et un module d'acquisition de données spécialisé. La chambre est conçue pour offrir une excellente qualité et des performances constantes sur une large gamme de réglages de température et de pression. Avec un profil bas et un design ergonomique, APPLIED MATERIALS P5000 MxP + dispose d'une interface utilisateur intuitive qui permet une configuration facile et efficace. Le procédé CVD de cette machine est basé sur le principe du bullage de molécules de gaz réactifs sur un substrat à la pression et à la température. Les substrats sont chauffés à une température prédéterminée et le gaz réactionnel est amené dans l'enceinte. Un mélange contrôlé de plusieurs gaz est ensuite injecté dans la chambre de réaction où il fournit un environnement chimique contrôlé pour la réaction de surface. Le processus CVD est surveillé en temps réel et un outil automatisé est utilisé pour contrôler le débit de gaz, la température et la pression à l'intérieur de la chambre. P5000 MxP + comprend un actif avancé de contrôle de température CVD pour fournir des films très recuit avec une excellente uniformité d'épaisseur. Il est également équipé d'une capacité de multiplexage, permettant d'optimiser les processus CVD en 8 voies parallèles. La conception à double chambre ajoute de la flexibilité, permettant au modèle d'effectuer simultanément le dépôt CVD, le retrait d'oxyde et d'autres traitements. Pour garantir un processus de dépôt fiable et répétable, AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + dispose d'un équipement de surveillance et de contrôle avec des dispositifs de sécurité intégrés, tels que la protection contre les surpressions, le contrôle de la durée du capteur de température et l'alarme de température de la chambre de réaction. Ce système est également capable de surveiller en permanence les échantillons, de détecter tout changement de qualités et d'ajuster les paramètres opérationnels en conséquence. AMAT P5000 MxP + est une unité CVD puissante et fiable pour la recherche et le développement de matériaux avancés. Il offre d'excellentes performances, flexibilité et précision dans les applications de R&D. Cette machine fournit un outil de contrôle de température CVD avancé, une capacité de multiplexage, et des fonctionnalités de contrôle et de surveillance fiables qui assurent un processus de dépôt cohérent et fiable.
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