Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #185395 à vendre en France

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ID: 185395
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1994
Oxide etch system, 8" (2) Chambers Software Revision SBC Board Version V21 Mainframe cables Standard / Extended (length) STD Chamber Location A / B / C / D: A/B Safety Module EMO Switch(2): Present UPS & Power Vaccine Remote Frame Pump Control Interface: Present Circuit Breaker: Present EMO Switch: Present Expanded VME Monitor Rack CRT Monitor: Absent Light Pen: Absent Service Monitor Rack: Absent Miscellaneous Harddisk: Present Floppy Disk: Present Transformer: Present Gas Panel standard / Extended: Expanded Laminar Flow Hood Mainframe cover: Absent Loadlock Chamber Robot Type Phase III Robot: Phase III Type Robot Blade: 8 Inch Blade WPS: Installed TC Gauge: Installed ATM Switch: Installed Vacuum Switch: Installed Blade Chuck Vent Kit: Absent Vacuum Sensor(TC): Installed Storage Elv. Slots 8 or 29: 29 Wafer IO Sensor Present or Not: OK Electronics (BD) System Electronics TC guage boards(2): Installed +12 Vdc powersupply: Installed +15 Vdc powersupply: Installed -15 Vdc powersupply: Installed Buffer I/O board: Installed AI Mux board(1): Installed Optical sensor boards(*2ea): Installed Chopper driver boards (*4ea): Installed Pneumatic Control PCB: Installed Main DC Power Supply: Installed ESC Controller Board: Installed Chamber A CVD: OXIDE Chamber Type: MXP+ RF Match Box 0100-30686 Nv Module cesc: Yes Epd controller: Yes Gate valve: Yes Cap manometer 1: Mks 1Torr TC Gauge: Yes Isolation V/V: STD Throttle V/V Type: STD Slit V/V: STD Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB Turbo pump Controller: YES Chamber B: CVD: OXIDE Chamber Type: MXP+ RF Match Box 0100-30686 Nv Module cesc: Yes Epd controller: Yes Gate valve: Yes Cap manometer 1: Mks 1Torr TC Gauge: Yes Isolation V/V: STD Throttle V/V Type: STD Slit V/V: STD Endpoint module: Monocromator Turbo pump: SEIKOSEIKI STP301CVB Turbo pump Controller: YES Gas Interface PCB: Gas Panel Interface/Expanded Gas Panel PCB Solenoide V/V Module: STD/Expanded Air V/V: FUJIKIN Gas box A,B MFC UNIT - 8160: CHF3 100SCCM MFC UNIT - 8160: AR 200SCCM MFC UNIT - 8160: CF 50SCCM MFC UNIT - 8160: O2 10SCCM MFC UNIT - 8160: N2 100SCCM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + est un équipement polyvalent de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) destiné à la recherche et au développement de structures et dispositifs de matériaux avancés. Ce système est adapté à diverses applications de R&D, telles que les semi-conducteurs composés, les nanomatériaux, les dispositifs de superlattrôle, les nanotubes de carbone monobloc, les nanowires et d'autres matériaux à couches bidimensionnelles. AMAT P5000 MxP + comprend deux chambres avec une unité de contrôle sous vide et un module d'acquisition de données spécialisé. La chambre est conçue pour offrir une excellente qualité et des performances constantes sur une large gamme de réglages de température et de pression. Avec un profil bas et un design ergonomique, APPLIED MATERIALS P5000 MxP + dispose d'une interface utilisateur intuitive qui permet une configuration facile et efficace. Le procédé CVD de cette machine est basé sur le principe du bullage de molécules de gaz réactifs sur un substrat à la pression et à la température. Les substrats sont chauffés à une température prédéterminée et le gaz réactionnel est amené dans l'enceinte. Un mélange contrôlé de plusieurs gaz est ensuite injecté dans la chambre de réaction où il fournit un environnement chimique contrôlé pour la réaction de surface. Le processus CVD est surveillé en temps réel et un outil automatisé est utilisé pour contrôler le débit de gaz, la température et la pression à l'intérieur de la chambre. P5000 MxP + comprend un actif avancé de contrôle de température CVD pour fournir des films très recuit avec une excellente uniformité d'épaisseur. Il est également équipé d'une capacité de multiplexage, permettant d'optimiser les processus CVD en 8 voies parallèles. La conception à double chambre ajoute de la flexibilité, permettant au modèle d'effectuer simultanément le dépôt CVD, le retrait d'oxyde et d'autres traitements. Pour garantir un processus de dépôt fiable et répétable, AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + dispose d'un équipement de surveillance et de contrôle avec des dispositifs de sécurité intégrés, tels que la protection contre les surpressions, le contrôle de la durée du capteur de température et l'alarme de température de la chambre de réaction. Ce système est également capable de surveiller en permanence les échantillons, de détecter tout changement de qualités et d'ajuster les paramètres opérationnels en conséquence. AMAT P5000 MxP + est une unité CVD puissante et fiable pour la recherche et le développement de matériaux avancés. Il offre d'excellentes performances, flexibilité et précision dans les applications de R&D. Cette machine fournit un outil de contrôle de température CVD avancé, une capacité de multiplexage, et des fonctionnalités de contrôle et de surveillance fiables qui assurent un processus de dépôt cohérent et fiable.
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