Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #293816535 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP est une solution de dépôt avancée qui fournit des procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD). L'équipement utilise des chambres basse pression de grande capacité pour permettre un dépôt plus rapide des couches minces avec un meilleur contrôle. Il est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la fabrication de dispositifs, ainsi que dans d'autres industries telles que la fabrication de cellules solaires, la fabrication de dispositifs MEMS/NEMS, la pulvérisation et la gravure de faisceaux d'ions. Le système dispose de cinq gousses de processus avec deux chambres de réacteur. Les deux chambres sont reliées à des pompes turbo moléculaires et à des régulateurs de débit massique intégrés. Chaque gousse fonctionne indépendamment, offrant la flexibilité nécessaire pour exécuter différents types de procédés et de recettes simultanément. L'unité permet de passer rapidement d'un processus à un autre en quelques minutes. Cela aide les utilisateurs à optimiser leurs recettes pour une production cohérente et à haut rendement. Les chambres de traitement du réacteur AMAT P5000 MxP utilisent un dispositif avancé à couplage de charges (CCD) pour assurer un dépôt précis et reproductible sur toute la durée de vie de l'outil. Cet actif utilise également une option d'alimentation du tube de dégagement à sec pour créer une zone de travail claire et sèche. Les deux options d'alimentation ont été testées pour être à faible teneur en particules, à faible vide, et sont lavables pour prolonger la durée de vie des composants de chambre. Le contrôleur Auto-Tune du modèle est conçu pour prendre continuellement la température et la pression de la chambre pour optimiser automatiquement les recettes de dépôt. Cela aide à maximiser le débit et la répétabilité. MATÉRIELS APPLIQUÉS P5000 MxP dispose également d'un enregistreur de données intégré, qui enregistre les données de l'équipement et permet aux utilisateurs de suivre la santé de leur système au fil du temps. Ces données sont sécurisées et stockées sur une carte mémoire locale cryptée, garantissant l'intégrité et la confidentialité des données. En conclusion, P5000 réacteur MxP est une solution de dépôt avancée qui fournit des procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) avec un débit et une répétabilité accrus. Sa machine d'alimentation à billes/fils CCD, couplée à son contrôleur Auto-Tune, permet d'excellents résultats de processus et un bon fonctionnement avec un minimum de maintenance. La carte mémoire locale cryptée permet l'intégrité des données et la confidentialité. L'outil est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la fabrication de dispositifs, ainsi que d'autres industries pour des applications similaires.