Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9127952 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor est un outil de traitement polyvalent et puissant utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Cette machine avancée est conçue pour transférer des vapeurs chimiques sur des substrats, permettant des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. AMAT P5000 MxP Reactor est équipé d'un générateur de plasma avancé et puissant, qui dispose d'un réseau de micro-ondes actif intégré et d'un puissant générateur de radiofréquences (RF) 63 MHz. Cette combinaison permet de contrôler avec précision les processus de gravure et de dépôt sur une large gamme de tailles de substrat. Pour le dépôt, APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor utilise des techniques avancées de plasma haute densité (HDP) pour déposer des films monocouches ou multicouches avec une excellente uniformité, une couverture par étapes et des profils verticaux. Ce réacteur polyvalent fonctionne avec une variété de substrats et de matériaux filmogènes, permettant un dépôt précis d'une large gamme de films. Pour la gravure, P5000 MxP Reactor utilise un mode magnétique unique pour permettre un contrôle précis de la chimie et de la vitesse de gravure. Ce processus de puissance élimine la nécessité de systèmes de polarisation externe compliqués car la gravure en mode magnétique améliore les profils de gravure verticaux et l'uniformité de la filière. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor offre flexibilité et polyvalence avec ses modules de processus. Les modules sont conçus pour permettre un traitement parallèle avec les procédés de gravure et de dépôt, ce qui améliore le débit du procédé. La conception modulaire permet également à l'utilisateur de combiner des processus avec AMAT P5000 MxP, ce qui permet d'offrir des étapes de processus innovantes sur une seule plateforme. En outre, APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor utilise une large gamme de substrats et de matériaux de substrat. Ceux-ci comprennent des substrats monobloc et double face dans une gamme de diamètres allant de 2 pouces à 8 pouces. Par ailleurs, P5000 MxP Reactor supporte également divers matériaux de substrat, y compris mais non exclusivement la silice, le nitrure d'aluminium et le nitrure de silicium. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor est un outil puissant et polyvalent pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ses capacités uniques, telles que le dépôt plasma haute densité et la gravure en mode magnétique, permettent un contrôle précis de la chimie des gravures et des dépôts et de traiter un large éventail de substrats et de matériaux de film. En conséquence, le réacteur AMAT P5000 MxP peut fournir la flexibilité et le débit nécessaires aux procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs.