Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9177952 à vendre en France

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ID: 9177952
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1993
System, 8" Chamber type Process Ch-A: Mxp Metal etch Ch-B: MxP Metal etch Ch-C: ASP P/R Strip Process kit Manometer Ch-A: Metal STD 1 Torr/MKS Ch-B: Metal STD 1 Torr/MKS Ch-C: Qtz 10 Torr/MKS Clean method Throttle valve Ch-A: RF Clean Yes Ch-B: RF Clean Yes Ch-C: - Yes Turbo pump Magnet driver Ch-A: Yes Yes Ch-B: Yes Yes Gas box MFC Gas name Ch-A: Yes - Ch-B: Yes - Ch-C: Yes - VME Type: HDD: Yes Controller slot: (21) Slots SBC Board type: SV21 Synagy Boss rom ver: Boss 4.8 Video board type: VGA Video FDD: 3.5" Robot type: Phase III Cassette handler: Phase III (top clamp) Sto elevator type: (8) Slots I/O Wafer sensor: Yes WPS Sensor: Yes L/Lock slow vent: Yes Slit valve type: Standard L/Lock purge: Yes RF Gen I/II type RF Match Ch-A: OEM 12A Phase VI Ch-B: OEM 12A Phase VI Ch-C: AX2115 Manual match EPD: E2.8 Exhaust line: Top, standard EPD Method: Monocrometer Gas panel: (12) Gas lines Monitor: TTW Mini controller: No H/E: AMAT 0 Chiller: NESLAB 1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + est un réacteur conçu pour fournir un dépôt avancé de couches minces de haute performance pour la production de produits semi-conducteurs de haute qualité et de pointe. Cet outil utilise des capacités de détection de température à vide élevé et in situ pour réaliser le dépôt et le traitement. AMAT P5000 MxP + peut être utilisé pour diverses techniques de dépôt, telles que CVD, MOCVD et ALD. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 MxP + est conçu avec une chambre à vide scellée à l'aide de roulements linéaires de haute précision, et un équipement de pompage à commande indirecte à haute force. Cette conception garantit une qualité de vide robuste et fiable, avec une pression de chambre maximale de 1,33 x 10- 4 Torr. Le réacteur a également une plage de fonctionnement à haute température, avec des températures allant jusqu'à 1000 ° C Cela permet le dépôt d'architectures de haute qualité et performantes. Le système dispose également d'une unité de diagnostic in situ avancée qui assure un suivi fiable en temps réel du processus de dépôt. Cette machine puissante permet le développement automatisé de processus à la fois de continuité et d'uniformité. C'est un grand avantage pour tout client souhaitant optimiser le processus de dépôt. P5000 MxP + a également été conçu avec des dispositifs de sécurité intégrés qui empêchent toute situation dangereuse. Cela comprend l'intervertisseur laser, l'intervertisseur de processus et le blindage RF. L'outil d'interception surveille également le processus pour s'assurer que les paramètres de la chambre restent en dessous des valeurs de consigne. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + fournit un logiciel d'automatisation personnalisable et intégré qui permet de personnaliser la logique de processus et la configuration des actifs. Ce logiciel dispose d'une excellente interface conviviale et assure le contrôle du réacteur sans avoir besoin de compétences de programmation externes. Dans l'ensemble, AMAT P5000 MxP + est un modèle de réacteur très avancé et robuste idéal pour le développement de produits semi-conducteurs de pointe. Avec ses capacités à vide élevé, son équipement intégré de détection de température, son équipement de diagnostic in situ et diverses mesures de sécurité, ce système offre aux clients la qualité supérieure qu'ils veulent dans leurs produits.
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