Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9181328 à vendre en France

ID: 9181328
Taille de la plaquette: 8"
Poly chamber, 8" Chamber type: (3) MXP+ R2 Chamber ESC: Ceramic ESC (15) Slots storage Includes: HV Module Simple cathode RF Match Wall liner LID: SSGD Not included: Throttle VV Gate VV Turbo.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + est un réacteur de gravure modulaire conçu pour le traitement à haut rapport d'aspect de dispositifs avancés VLSI et microélectronique. Il est optimisé pour les masques photo et à haut rapport d'aspect, en utilisant une combinaison de procédés classiques de gravure ionique réactive (RIE) et de dépôt chimique en phase vapeur induit par le plasma (PICVD). Cette chambre hybride permet la définition de caractéristiques au niveau de l'appareil et l'intégration de recettes de processus au sein d'un même équipement. Le MxP + est un système monobloc qui supporte jusqu'à 150 mm de plaquettes et a un design à trois zones avec une grille, chambre principale et chambre avant. La chambre de grille est optimisée pour accélérer le temps de transition entre les modes de vide et de nano-turbulence, tandis que la chambre principale est utilisée pour délivrer les ions réactifs et l'énergie plasmatique pour graver la surface de la plaquette. Le dos de la plaquette est exposé au plasma de la chambre avant pour assurer un processus de gravure homogène. AMAT P5000 MxP + est conçu pour les modèles de caractéristiques de périphériques haute densité, nécessaires pour les conceptions de périphériques les plus avancées. Pour ce faire, il fournit un environnement de processus hautement stabilisé, y compris des technologies actives et passives de contrôle propre de l'environnement. Le MxP + offre également des temps de cyclage rapides et une répétabilité du processus, ce qui permet d'augmenter les débits et le rendement du dispositif. Le MxP + utilise une combinaison de techniques de gravure, y compris la gravure par faisceau d'ions, la gravure par plasma améliorée par ions, la gravure par plasma haute densité et la gravure par pulvérisation, ce qui permet de graver divers substrats et matériaux. Il permet également la gravure de fils métalliques avec un minimum d'encastrement ou d'inclinaison. Pour assurer un haut niveau de précision et de répétabilité, la chambre dispose d'un contrôle plus strict de la pression et de la température, et dispose de systèmes polyvalents de distribution de puissance et de gaz. Le MxP + dispose également d'une unité logicielle de développement de recettes facile à utiliser, qui permet aux ingénieurs de créer rapidement des recettes personnalisées avec une intervention minimale. La machine à recette ajuste également automatiquement les paramètres du processus et affiche des données en temps réel telles que la profondeur de gravure, la sélectivité et l'uniformité. En outre, le logiciel de recette dispose de garanties intégrées pour garantir la qualité et la reproductibilité des paramètres de processus. En conclusion, APPLIED MATERIALS P5000 MxP + est un outil de réacteur avancé conçu pour le traitement à haut rapport d'aspect des dispositifs avancés VLSI et microélectronique. Il offre une combinaison de techniques de gravure et fournit une précision, une répétabilité et des débits inégalés pour les appareils haute densité. En outre, il dispose d'un atout automatisé de développement de recettes, offrant aux ingénieurs la flexibilité de créer rapidement et facilement des recettes de processus hautement reproductibles.
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