Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9200091 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Il s'agit d'une plate-forme de nouvelle génération pour la conception et la fabrication de matériaux nanofabriqués, tels que les transistors à couches minces (TFT), les nanofils et d'autres composants nanométriques. Il est bien adapté pour l'intégration avancée de dispositifs 3D, ainsi que pour la fabrication de dispositifs microélectroniques de haute qualité. Le réacteur AMAT P5000 MxP + offre une variété de caractéristiques qui en font une solution attrayante pour la fabrication de semi-conducteurs. Il utilise une technologie de pointe de plasma magnétiquement amélioré (MEP), qui permet d'améliorer les taux de dépôt, l'uniformité des particules et l'uniformité des procédés. Cela permet au réacteur de déposer des films de haute qualité avec d'excellentes propriétés électriques, thermiques et chimiques. En outre, le réacteur MxP + offre un rendement de procédé élevé, un débit élevé et une faible contamination par les particules, ce qui le rend idéal pour l'intégration de dispositifs tridimensionnels. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Le réacteur MxP + est équipé d'un dispositif multi-chambres pour la co-dépendance des composants indépendants, permettant des réactions rapides et une utilisation efficace des ressources. Il est entièrement compatible avec les systèmes de contrôle thermique et chimique existants et les logiciels d'optimisation. Cela permet de multiples points de contrôle thermique et chimique pendant le processus de dépôt, assurant l'uniformité et la répétabilité des résultats. De plus, le réacteur MxP + est compatible avec les systèmes de contrôle RF et de champ magnétique avancés. Ceci permet un contrôle précis de l'état du plasma et de la température du substrat pour des performances plus cohérentes et reproductibles. P5000 Réacteur MxP + est livré avec un système automatisé de surveillance des processus, qui permet aux opérateurs de suivre les performances du processus et d'effectuer les ajustements nécessaires au besoin. L'unité permet la collecte et l'analyse de données en temps réel, ce qui permet d'optimiser les taux de dépôt des films, leur uniformité et leur qualité. En outre, le réacteur MxP + peut être exploité à distance, avec des options de contrôle automatisé et manuel, permettant une fabrication rapide et rentable. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP + est une machine de dépôt chimique en phase vapeur améliorée par plasma adaptée aux dispositifs logiques et à mémoire hautement sensibles et performants. Il offre des taux de dépôt améliorés, l'uniformité et la contamination des particules, permettant des résultats plus fiables et reproductibles. Avec ses caractéristiques avancées, ce réacteur est une solution idéale pour l'intégration de dispositifs 3D avancés et la fabrication de semi-conducteurs.