Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9218919 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP est un réacteur conçu pour des applications de gravure et de dépôt à base de plasma. Il dispose d'une source RF flexible et à grand écart et d'un bouclier Faraday intégré qui permet de fonctionner sur une large gamme de fréquences, de pressions et de configurations de chargement. L'unité offre des conduites de gaz réglables de manière indépendante pour un contrôle précis des gaz d'attaque et dopants et utilise un système intégré de pompage à vide pour un contrôle précis de la pression de la chambre. Il offre également un ensemble complet de diagnostics plasmatiques, y compris une sonde Langmuir, spectroscopie d'émission optique, cartographie en ligne des plaquettes, et spectroscopie de fréquence de source de puissance à plasma. Toutes les mises à niveau de compatibilité nécessaires, y compris le matériel informatique, l'entretien sur place et les pièces de rechange sont disponibles auprès de l'entreprise. AMAT P5000 MxP est conçu pour les processus traditionnels de gravure et de dépôt ainsi que pour les processus plasmatiques plus avancés comme le dépôt de couche atomique et l'implantation ionique. La configuration flexible de l'unité permet la gravure et le dépôt d'un large éventail de matériaux, y compris les oxydes, les nitrures, les diélectriques et les métaux. Sa grande taille de chambre et son homogénéité spatiale rendent les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 MxP adaptés à un certain nombre de procédés, y compris les dépôts à haut débit et les gravures à réglage fin. P5000 MxP est conçu comme un système de processus clé en main et est entièrement équipé pour le fonctionnement. Il comprend un processeur de mission intégré qui gère les recettes de processus automatisées, la mise en place et la gestion des paramètres plasma et le chargement des plaquettes. En outre, il offre des outils de suivi et de diagnostic des processus pour assurer la plus grande uniformité possible et des rendements. La source d'énergie du plasma peut être ajustée à une gamme de fréquences, de pressions et de charges simples et complexes, couvrant efficacement un large éventail de matériaux et de recettes de traitement. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP est conçu pour offrir des performances de gravure et de dépôt du plasma fiables avec une stabilité et des rendements à long terme cohérents. L'unité peut être facilement configurée, entretenue et entretenue car elle est entièrement équipée de tous les accessoires, logiciels et outils de maintenance nécessaires. En outre, ses technologies intégrées de cartographie plasma et wafer assurent le rendement le plus élevé possible et l'uniformité des processus sur de grandes surfaces. En résumé, AMAT P5000 MxP est un système de processus de grande capacité conçu pour les processus de gravure et de dépôt à base de plasma compatibles avec un large éventail de matériaux. Sa conception robuste et ses technologies de diagnostic intégrées le rendent idéal pour les opérations de dépôt à haut débit, de gravure fine et de dépôt de couche atomique.