Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9226621 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP est un réacteur de traitement des métaux conçu pour les procédés photolithographiques de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur profite des dernières innovations dans les systèmes de gravure et de dépôt de plasma pour obtenir des résultats supérieurs dans la production d'un rapport d'aspect élevé et de structures métalliques uniformes. Le réacteur offre un choix de deux types de sources de plasma - le plasma à couplage inductif (PIC) et le plasma à couplage capacitif (PCC) - pour permettre aux utilisateurs de choisir le meilleur procédé de gravure pour leur application spécifique. Il utilise également une source de sublimation en titane qui permet de graver des masques durs stratifiés structurés. AMAT P5000 MxP dispose de la technologie brevetée RF Matching pour fournir le meilleur contrôle et répétabilité possible des processus plasmatiques. Le réacteur est également équipé d'une uniformité plasma avancée et de capacités de détection du point final pour améliorer la fenêtre de processus et permettre des résultats précis et reproductibles. Le kit Reticle Innovant du réacteur permet également aux utilisateurs d'utiliser différentes tailles de masques, formes et largeurs de lignes, ainsi que d'utiliser des caractéristiques telles que vias aveugles, tranchées, et des caractéristiques nivelées. Les caractéristiques avancées du réacteur comprennent une capacité de polissage chimique et mécanique (CMP) qui assure une profondeur de contact et de gravure précise, un système de transfert de réticules automatisé et un système de coalescence de gaz qui assure un débit de gaz uniforme. Le réacteur est également équipé d'autres fonctionnalités conviviales, y compris une interface utilisateur simple et des affichages de couleurs graphiques, pour s'assurer que son utilisation est facile, intuitive et efficace. En conclusion, APPLIED MATERIALS P5000 MxP est un réacteur de production de pointe qui a été conçu pour fournir des performances pointues au laser dans la production de structures complexes. Sa combinaison unique de sources de plasma avancées, ses capacités de contrôle et d'uniformité des procédés et ses fonctionnalités conviviales en font une solution polyvalente et économique pour la fabrication de dispositifs.