Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 WCVD #9289562 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 WCVD (Chemical Vapor Deposition) Reactor est un système polyvalent de dépôt sous vide à haut débit, enrichi en métal. Cet outil avancé offre une foule de fonctionnalités qui en font un outil utile pour de nombreuses applications différentes. Réacteur AMAT P5000 WCVD fournit des débits de dépôt élevés aux temps de dépôt les plus rapides avec ses caractéristiques de croissance automatisée des films. Les utilisateurs peuvent choisir entre des zones simples, multiples ou sur mesure avec jusqu'à quatre calendriers de plaquettes pour une croissance précise et répétable du film. Le P5000 soutient également une gamme de capacités de dépôt, y compris la gravure, les dépôts améliorés par le métal (y compris le nitrure de tantale, le nitrure de titane et le carbure de tungstène) et les dépôts conformes pour des matériaux comme le nitrure de silicium et l'oxyde d'aluminium. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 WCVD comprend également une large gamme de capacités pour le post-traitement, y compris le nettoyage capillaire pour la nanomanufacturation et le recuit à basse température pour la production de surfaces sans contact. Cela peut en faire un excellent outil pour la fabrication de semi-conducteurs et de CI. En outre, P5000 réacteur WCVD est conçu avec une interface de contrôle robuste et conviviale avec la technologie d'écran tactile. L'interface utilisateur intuitive du système facilite la navigation et le fonctionnement, même pour les utilisateurs inexpérimentés. Les utilisateurs peuvent également transférer des fichiers historiques, accéder aux communications à distance et définir les conditions de processus via une connexion sécurisée et pratique. Le P5000 intègre également des capacités diagnostiques avancées, qui permettent la maintenance prédictive et l'optimisation des processus. Le réacteur AMAT P 5000 WCVD est idéal pour ceux qui ont besoin des technologies de dépôt les plus récentes dans leur processus. Cet outil de dépôt avancé offre d'excellents taux de dépôt et des temps de dépôt rapides, ce qui en fait un choix idéal pour des films de haute pureté, des caractéristiques de ratio d'aspect élevé et des structures ultra-précises dans des composants micro-électroniques de haute performance. Des semi-conducteurs et des CI aux MEMS et aux applications photovoltaïques, le réacteur WCVD P 5000 est un outil indispensable pour ceux qui ont besoin du système de dépôt à haut débit le plus efficace possible.