Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #115356 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur monocouche entièrement automatisé de 300mm qui fournit une technologie précise de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (CVD). Cet outil est composé de plusieurs composants et sous-unités, dont une chambre ambiante, une chambre de procédé, une chambre de transfert et un four. La chambre ambiante est l'un des composants majeurs de ce réacteur. Il est scellé avec un filtre à air HEPA, assurant que l'environnement à l'intérieur du réacteur est propre. La chambre abrite un bras robotique à grande vitesse, qui sert ensuite à transférer la plaquette vers et depuis la chambre de transfert, ainsi qu'à assurer un contrôle précis de l'orientation de la plaquette. La chambre de procédé est l'endroit où se déroule le processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Cette chambre est équipée de deux réacteurs CVD, qui utilisent des températures élevées et des pressions basses précises pour déposer une fine couche de matière sur la plaquette. La température à l'intérieur de la chambre de procédé peut être contrôlée avec précision et assure un dépôt uniforme sur l'ensemble de la plaquette. La chambre de transfert est une grande chambre étanche au vide qui abrite le robot de transfert qui déplace la plaquette de la chambre ambiante à la chambre de procédé. Cette chambre est conçue pour assurer que la plaquette reste sûre et exempte de contamination pendant le processus de transfert. Le four est un four à haute température qui est utilisé pour cuire la plaquette avant et après le processus CVD. Ce four chauffé permet d'améliorer l'adhérence du matériau déposé sur la plaquette et contribue également au dépôt uniforme. AMAT P-5000 dispose également d'un système de surveillance informatique avancé, permettant un contrôle et une surveillance précis des paramètres actuels et de la température pendant le dépôt. Ce système de surveillance informatique permet également aux utilisateurs de stocker et de récupérer des recettes, ainsi que de surveiller les températures internes et externes. Dans l'ensemble, le réacteur P 5000 à matériaux appliqués est conçu pour effectuer un dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (CVD) précis de matériaux sur plaquettes avec dépôt uniforme et poids uniforme. Cet outil est équipé de plusieurs composants différents, dont une chambre ambiante, une chambre de procédé, une chambre de transfert et un four, qui travaillent ensemble pour assurer un environnement propre et sans contamination pour un dépôt propre et précis.