Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #115991 à vendre en France
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Vendu
ID: 115991
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1991
MXP Etcher, 6"
(3) Chambers
Mainframe type: Mark II
I/O Wafer sensor: No
Installation: Stand alone
Expanded VME: Yes
Mini-Controller: Yes
Phase 3 robot: Yes
Phase 3 cassette handler: Yes
Storage elevator: (8) Slots
Cassette platform: Standard
Wafer orienter: No
L/L Chamber bolt down lid: No
L/L Particle reduction kit: No
Gas panel:
MFC Unit UFC-1100A
Gas panel type:
Twelve lines main: No
Twenty-Eight line onboard: No
Standard gas panel (28 line capability): Yes
Remote gas panel: No
Chamber A:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Chamber C:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Chamber D:
MFC Size gas cal gas
300 sccm CF4 N2
100 sccm Ar N2
100 sccm O2$ O2
50 sccm O2 N2
Process application:
Chamber A: Etch MxP
Chamber C: Etch MxP
Chamber D: Etch MxP
System electronics:
Slot # Description
1 Mini SBC
2 SBC
3 SEI
4 MIZER: No
5 AI
6 AO
7 Video
8 AO
9 AI
10 Stepper
11 Stepper
12 Stepper
13 Stepper
14 DI/DO
15 DI/DO
16 DI/DO
17 DI/DO
18 DI/DO: No
19 DI/DO: No
20 DIO: No
Floppy drive 3.5
Chambers A, C and D:
Chamber type (Specify Mark II, MxP+, CVD or other): MxP
Lid type (Specify STD, EGEC, BDEC, Uni-Lid or other): STD
Chamber rough line
Chamber airline
Chamber interconnect PCB
Heat exchanger QD fitting
NESLAB facilities plumbing
Slit valve assembly
Remington hinge slit valve
Backing pump circuit breaker
RF Generator power outlet
RF Generator circuit breaker
Magnet driver (If present, Rev#)
Lamp driver (If present, Rev#): No
RF Match
Turbo controller
Turbo flow meter: No
Turbo pump / Controller type Turbolink NT340M: Leybold
Gate valve: No
Chamber vent valve
Remote frame:
Primary pump frame: No
Secondary pump frame: No
Stacked remote frame: Yes
Stacked remote frame contents: AMAT (3) RF Generators
(1) Heat exchanger
Type of hose fittings: QDC
RF Generators:
Chamber A: ENI 12A
Chamber C: ENI 12A
Chamber D: ENI 12A
1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à base de plasma de pointe utilisé pour la gravure et le dépôt de matériaux pour la fabrication de dispositifs électroniques. Ce réacteur est réputé pour ses capacités rentables et performantes. Le réacteur utilise un équipement plasma haute densité créé à partir de champs électriques haute fréquence qui peut fournir une gravure et un dépôt de précision. Grâce à ce procédé, les caractéristiques avec une très haute précision peuvent être fabriquées avec précision. En outre, AMAT P-5000 est également équipé d'un sous-système spécialisé à haute température qui permet des taux de dépôt plus élevés et des dépôts conformes, ce qui contribue à améliorer l'uniformité des matériaux et à réduire le temps de dépôt et de gravure, ce qui améliore considérablement l'efficacité du procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 assure également un contrôle dynamique des gaz et une planarisation homogène en intégrant un système plasma haute densité avancé. On obtient ainsi une homogénéité sensiblement supérieure dans les couches entre 4 et 100 nm, avec une uniformité d'épaisseur exacte de +/- 5 %. Cela permet de contrôler précisément la vitesse de gravure et d'atteindre une sélectivité constante au niveau des dépôts. En outre, cette unité a la capacité d'atteindre jusqu'à 400 W de densité ionique et 40 mT d'uniformité plasmatique, fournissant un processus de gravure supérieur et incluant un contrôle de température supérieur. En termes de débit, le réacteur AMAT P 5000 est significativement plus rapide que les systèmes traditionnels, avec un taux de dépôt maximal jusqu'à 30 um/min. Cela contribue à réduire le temps et le coût de production. En outre, la machine intègre une interface informatique spécialisée, qui permet à l'utilisateur d'utiliser facilement différents paramètres de processus et recettes pour la fabrication de différents composants. Dans l'ensemble, P-5000 est un réacteur à plasma avancé qui offre des capacités de gravure et de dépôt rentables et performantes. Cet outil est réputé pour son homogénéité et sa précision supérieures en matière d'épaisseur, de densité ionique et de sélectivité lors du dépôt. En outre, son meilleur débit et interface informatique permet à l'utilisateur de fabriquer facilement des composants avec des exigences spécifiques.
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