Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #116968 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt et de planarisation par épitaxie conçu pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur AMAT P-5000 fournit une solution à chambre unique qui permet un dépôt fiable et précis de matériaux épitaxiés pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est équipé d'une plate-forme de pulvérisation de 400mm dotée d'un contrôleur multi-zones de 5 zones pour un contrôle précis de la température. Le substrat est chauffé par des bobines électriques de pulvérisation indépendantes à grande vitesse situées sous la surface inférieure de la chambre. La plate-forme de susceptor est également conçue pour accueillir jusqu'à 24 plaquettes simultanément. L'effecteur final breveté du réacteur AMAT P 5000 Liner-Spring (TM) accueille des substrats de tout type et de toute taille, ce qui élimine la nécessité de remplacer l'effecteur final pour accueillir différents substrats. Le réacteur AMAT P5000 offre également un logiciel programmable facile à utiliser et un certain nombre de fonctionnalités pour améliorer la productivité, y compris la régulation automatique de la pression, la surveillance des défauts et les dégazages sous vide à plat. Le système est également construit avec un ensemble de sources de dépôt, y compris une source d'enrichissement/élément combiné et cinq sources élémentaires qui peuvent être configurées pour fournir divers types de dépôts. Le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 comprend également des composants avancés de distribution de gaz, notamment un régulateur de débit massique de gaz source (MFC), des flux gazeux d'entrée et de sortie purgés, des collecteurs de purge et des catalyseurs distincts pour chaque source. En outre, P5000 réacteur est équipé d'une pompe turbomoléculaire multi-étages configurée pour répondre aux exigences de fonctionnement exigeantes du dépôt de dispositifs semi-conducteurs. La machine est conçue avec une combinaison de sources avancées et une variété de technologies avancées de traitement des matériaux pour assurer une atmosphère de processus ultra propre. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est également livré avec une chambre supplémentaire appelée la chambre « Air-Stream ». Cela permet une source supplémentaire pour le dépôt de matériaux avancés pour le traitement des dispositifs avec le plus haut débit possible. Le flux d'air permet la recharge des sources directement dans la chambre plutôt qu'à l'extérieur de celle-ci et les conduites de gaz vers le réacteur sont facilement purgées grâce à la conception séparée de la chambre. Réacteur P 5000 offre une intégration complète de l'outil qui assure le plus haut niveau de fiabilité et de contrôle. Un actif de journalisation des données en option permet des outils supplémentaires de collecte et d'analyse des données, tandis qu'un modèle de maintenance préventive garantit une performance optimale de l'équipement. P-5000 réacteur est un système polyvalent et fiable pour la fabrication de tout dispositif semi-conducteur avancé.