Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #131577 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur avancé PECVD conçu pour déposer des motifs de film sur des substrats. L'équipement peut reproduire avec précision et fiabilité le film motivé pour une large gamme d'applications telles que les écrans à transistor à couche mince (TFT) et les MEMS (systèmes microélectromécaniques). AMAT P-5000 est un processeur monobloc idéal pour une production à haut rendement et des vitesses de cycle rapides. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur PECVD P 5000 est équipé de neuf chambres, chacune pouvant traiter jusqu'à 200 procédés par heure. Il existe trois chambres de dépôt d'oxydes de silicium, de nitrures et de a-Si : H pour les applications de transistors à couches minces. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 comprend trois chambres de dépôt spéciales telles que le nitrure de silicium et le nitrure d'oxyde de silicium (SiON). L'agencement de la chambre fournit une solution efficace pour le dépôt simultané de matériaux multiples. Les produits chimiques utilisés dans le PECVD-réacteur P-5000 sont adaptés à l'application spécifique et sont logés dans les réservoirs chimiques spéciaux. La chambre de procédé est capable de contrôler et de maintenir des températures allant jusqu'à 425 ° C, ce qui permet d'affiner l'épaisseur de dépôt et de former des caractéristiques nanométriques. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 utilisent un certain nombre de gaz différents, tels que l'azote, le chlore et l'hydrogène, permettant de déposer des structures en couches minces avec une contamination minimale. AMAT P5000 intègre également diverses fonctions de sécurité et de maintenance automatisée, assurant un fonctionnement sûr et efficace avec un minimum de temps d'arrêt du processus. Un système avancé de contrôle des flux est mis en place pour assurer la livraison précise des produits chimiques pour une production cohérente et de haute qualité des plaquettes. De plus, l'unité est équipée d'une unité d'étalonnage et d'essai embarquée entièrement automatisée qui peut être utilisée pour assurer l'intégrité de toutes les étapes du processus. P5000 réacteur PECVD est un outil polyvalent et fiable pour le dépôt fiable de structures pelliculaires structurées. Utilisant des techniques éprouvées, l'unité peut être utilisée pour déposer un large éventail de matériaux avec une grande précision, fournissant des structures de couches minces supérieures avec un minimum de temps de traitement. La conception robuste de la machine, ses fonctionnalités automatisées et ses systèmes de sécurité en font un choix idéal pour le traitement des plaquettes.