Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #159341 à vendre en France

ID: 159341
Frame, as pictured Missing parts Stored in a cleanroom.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de réacteur de dépôt utilisé dans les procédés de dépôt en couches minces. Il utilise plusieurs sources avec différents types de gaz, tels que l'argon et l'azote, pour créer une couche mince qui est déposée sur un substrat. L'équipement comporte une chambre à température variable, permettant de chauffer le substrat jusqu'à des températures allant jusqu'à 750 ° C En outre, il contient également un moniteur à cristaux de quartz pour mesurer le processus de dépôt en couches minces. AMAT P-5000 est utile dans diverses applications, car il peut être utilisé pour produire des couches minces telles que des oxydes, des nitrures et des métaux sur différents types de matériaux. Il peut être utilisé pour créer des films minces allant de sous-microns à des centaines de nanomètres d'épaisseur. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 permet également un contrôle précis du processus de dépôt, permettant aux utilisateurs d'obtenir des films de haute uniformité et qualité. Le système peut accueillir jusqu'à quatre sources, chaque source pouvant fournir différents types de gaz. Pour assurer l'uniformité, APPLIED MATERIALS P5000 utilise un contrôle par point d'ordinateur sur chaque source, ce qui permet aux utilisateurs d'ajuster le gaz provenant de chaque source et de surveiller le processus de dépôt du film. Les sources peuvent être chauffées à l'aide d'un dispositif résistif, permettant aux utilisateurs d'affiner la température du substrat. L'unité fournit également une gamme de dispositifs de sécurité, tels qu'une machine de prélèvement automatisé qui peut détecter les fuites ou les fuites thermiques. Il offre également des emboîtements électromagnétiques doubles, conçus pour offrir une protection en cas de panne de courant ou d'arrêt d'urgence. En outre, il dispose également d'une gamme d'alarmes et de systèmes d'arrêt conçus pour assurer le fonctionnement sûr du processus. Globalement, AMAT P 5000 est un réacteur de dépôt idéal pour produire des couches minces sur différents substrats. Il offre une gamme de caractéristiques, des mesures de sécurité à la régulation précise de la température, ce qui en fait un outil inestimable pour une variété d'applications commerciales et industrielles.
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