Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #159348 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de pointe conçu pour créer des films et des structures de haute performance. Il s'agit d'un réacteur à plasma ultra haute densité (UDP) plate-forme 8 pouces wafer qui est capable d'une chimie « propre » optimisée qui permet un traitement avancé des matériaux, en particulier pour des matériaux de haute qualité maximale de processus à pièces. En exerçant une influence sur le dernier dans la recherche de plasma, AMAT P-5000 fournit à l'utilisateur la performance de déposition supérieure dans leurs buts de fabrication d'appareil. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 a été conçu avec un procédé de dépôt de plasma en aval à haute énergie et symétrique pour offrir une uniformité et une performance de qualité exceptionnelles. L'unité offre une conception flexible de la chambre de processus, y compris le nettoyage automatisé, la distribution de gaz et les quantités variables de gaz de processus. Cela permet aux utilisateurs de personnaliser et de contrôler efficacement leurs paramètres de processus. AMAT P 5000 dispose d'une cassette de mise à niveau de charge qui assure aux produits délicats une température uniforme pendant le processus in situ. L'équipement dispose également d'un processus d'inertage intégré qui permet à l'utilisateur de réduire les événements de contamination et d'assurer un environnement propre et sans contamination. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 utilise des pompes soudées à double refroidissement à air pour sa puissante capacité d'augmentation de pression. L'unité dispose d'un contrôleur intégré pour contrôler avec précision les températures du procédé et les pressions partielles des gaz du procédé. P-5000 contrôleur peut ajuster automatiquement la pression, le temps et la température pour optimiser le processus de dépôt, permettant à l'utilisateur d'obtenir des résultats de dépôt supérieurs. P 5000 utilise un procédé LEIP (low-energy ion plating) pour une structure et une qualité de film optimales. Le procédé LEIP utilise un mécanisme de dépôt uniforme du film, ce qui améliore le rendement du dépôt, l'uniformité et la qualité du film. Le système comprend de multiples mélanges de gaz à réaction rapide pour permettre un débit de gaz plus précis et précis, ainsi qu'un réseau de plasma réglable. Dans l'ensemble, AMAT P5000 est un choix idéal pour ceux qui recherchent une unité fiable et conviviale pour leurs besoins de traitement de matériaux avancés. Avec une combinaison avancée de caractéristiques de conception, P5000 offre des performances de dépôt supérieures avec une excellente contrôlabilité et flexibilité. La machine robuste permet aux utilisateurs de produire en toute confiance des produits supérieurs avec la précision et les performances nécessaires pour exceller dans les marchés en mutation d'aujourd'hui.