Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #177998 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt sous ultra-vide (UHVD) conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). C'est un outil utilisé dans la fabrication actuelle de semi-conducteurs, permettant le dépôt de couches minces pour la production de semi-conducteurs, d'écrans et d'autres dispositifs utilisés dans les produits de consommation. Ce système offre des performances exceptionnelles dans le dépôt de films diélectriques et métalliques pour diverses applications. Le réacteur AMAT P-5000 est conçu pour une capacité de traitement UHVD rapide et efficace, permettant aux utilisateurs de déposer des films avec un contrôle précis de la composition, sans impuretés ni conflits. Il a une excellente uniformité, couverture d'étape, et contrôle d'épaisseur, qui sont des caractéristiques clés pour la production d'appareils électroniques complexes d'aujourd'hui. Cette unité dispose d'un processus d'optimisation interne avancé pour maintenir les paramètres critiques du processus à des niveaux optimaux. Il utilise une unité de puissance à couplage de capacités efficace pour assurer une répartition uniforme de la puissance afin de faciliter des taux de dépôt élevés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 dispose de multiples sources de plasma à couplage inductif de type champ qui sont capables de délivrer jusqu'à 1 watt de puissance RF. Il offre également un contrôle précis de la température avec une plage comprise entre -150 et 600 degrés Celsius. Cette machine comprend un contrôleur de température de diagnostic intégré, qui fournit une mesure précise des températures de processus. L'utilisateur peut également ajuster manuellement l'environnement pour adapter chaque dépôt de film. Le réacteur P 5000 offre des caractéristiques de sécurité avancées, y compris un régulateur de pression automatique et une couverture de gaz inerte. Il est conçu avec des alarmes à distance et une capacité d'arrêt automatique, qui assurent le fonctionnement sûr de l'outil. P-5000 réacteur offre une polyvalence exceptionnelle, car il est capable de déposer des diélectriques, des métaux et des nitrures, des oxydes et des polymères. Il est bien adapté au dépôt de photorésist, et à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cet actif est également adapté au dépôt de métaux platiniques, qui sont essentiels dans les processus de fil et de contact. Dans l'ensemble, P5000 réacteur est un modèle avancé et fiable qui offre un contrôle de processus et des performances supérieures. Ses caractéristiques et capacités exceptionnelles en font un outil idéal pour les applications complexes d'aujourd'hui.