Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #188546 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur spécialement conçu pour la production de semi-conducteurs et de dispositifs photovoltaïques. Il s'agit d'un équipement réactif de gravure ionique (RIE) et de pulvérisation, capable de travailler avec un large éventail de matériaux. Le réacteur AMAT P-5000 se compose d'une chambre à vide, d'un collecteur de distribution de gaz de gravure, d'un système d'adaptation des gaz et de l'équipement de contrôle et de métrologie. La chambre est construite avec des parois en acier inoxydable, et l'intérieur est fait d'un matériau non métallique avec une haute stabilité thermique. Le collecteur de distribution de gaz de gravure est équipé d'une série de vannes et de buses pour faciliter une gravure précise. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est capable de fonctionner dans des conditions de haute et basse pression, avec une plage de pression maximale de 1-10 Torr. Le contrôle de la température est assuré par des thermocouples, tandis qu'un régulateur de débit massique gère la chimie précise du procédé de gravure. L'unité permet un réglage rapide des paramètres du réacteur et un contrôle précis du processus de gravure. Le réacteur AMAT P 5000 est équipé d'une machine de contrôle numérique pour une précision améliorée, permettant un contrôle précis du processus de gravure. L'outil est capable de délivrer des débits d'évacuation élevés, grâce à son actif de mélange de gaz avancé, qui assure un débit de gaz précis et uniforme dans toute la chambre de réaction. Le modèle comprend également un générateur de plasma qui peut produire de l'oxygène hautement réactif et du plasma d'azote. Ceci fournit un contrôle avancé de la vitesse de gravure, permettant de supprimer avec précision des caractéristiques aussi petites que 0,5 um. P5000 réacteur est capable de travailler avec une variété de matériaux, y compris les métaux, le silicium, le germanium et les polyimides. Sa puissante gravure ionique permet d'affiner le processus de gravure, permettant un contrôle précis du flux et de la largeur des caractéristiques. L'équipement offre un choix de gaz de gravure, permettant une sélection précise des espèces de gravures, avec des vitesses de gravure allant de 0,3 micron à 50 microns, selon l'application. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 offre un haut niveau de stabilité du procédé, grâce à son contrôle avancé de la température, de la pression et des gaz de gravure. En outre, son système de contrôle numérique permet un contrôle précis des processus de gravure et l'enregistrement des données. L'unité est conçue pour un accès facile à tous les paramètres opérationnels, y compris la température, la pression et le débit. Ceci assure une variation aisée de ces paramètres au cours du processus de gravure. La machine est également capable de surveiller une variété de paramètres, permettant une reproductibilité précise du processus de gravure. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est un outil idéal pour une production de haute précision et de haute qualité de dispositifs photovoltaïques et semi-conducteurs.