Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #192914 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) plasma très efficace et flexible qui est utilisé dans la fabrication de composants microélectroniques. Ce système offre un dépôt plasma RF, DC ou impulsionnel dans une plate-forme fiable pour le dépôt direct sur une grande variété de substrats, structures et configurations. Le réacteur AMAT P-5000 utilise la technologie du plasma à résonance cyclotron électronique (ECR) et est capable de générer des décharges de haute énergie de 40 mégawatts (MW) ECR. En outre, les matériaux appliqués P 5000 est disponible avec un système de pompe différentielle chauffée, fournissant une agitation indépendante, des vitesses programmables de pression de chambre, et assurant un débit uniforme et un dépôt uniforme tout au long. Le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 fonctionne en boucle fermée, en combinant les gaz réactifs avec la puissance du plasma pour créer une chambre de procédé sous vide qui est évacuée en continu par une pression pompée. Cet environnement permet un contrôle précis des paramètres du processus tels que la pression, la densité de puissance et la température, assurant à la fois la répétabilité et les résultats reproductibles. En outre, les fonctions de contrôle informatique intégré P-5000 des MATÉRIAUX APPLIQUÉS permettent la surveillance et le réglage en temps réel de la température et de la pression de fonctionnement dans la chambre afin d'assurer des conditions de réaction optimales, améliorant ainsi le contrôle des processus et réduisant les temps de fonctionnement. Les matériaux de procédé utilisés dans P-5000 sont fournis sous diverses formes, y compris des plaquettes, des substrats et des particules, et peuvent varier de quelques nm à plusieurs mm de taille. De ce fait, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 a une capacité polyvalente qui permet un dépôt adapté à pratiquement tout type de structure céramique. Le réacteur AMAT P5000 est conçu pour être convivial et répondre aux niveaux de dépôt cibles pour un certain nombre d'applications telles que les mémoires haute densité, les réseaux optiques complexes et les circuits micro-électriques. La conception rigoureuse garantit une excellente uniformité et répétabilité des processus pour garantir la qualité et la fiabilité ainsi qu'une utilisation efficace des ressources. Par ailleurs, AMAT P 5000 peut être utilisé avec diverses combinaisons de gaz, de la gravure sèche, à la gravure d'oxyde, à la gravure de nitrures et est disponible avec diverses configurations de four de lots, permettant des dépôts complexes de différents matériaux. En conclusion, P5000 réacteur CVD est un outil de dépôt avancé qui offre une variété de capacités de dépôt et de matériaux de traitement dans une plate-forme fiable et efficace. Ce système est conçu pour garantir la qualité et la reproductibilité des résultats avec un contrôle précis des processus, et est un excellent choix pour la recherche et les applications industrielles.