Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #200769 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de couches minces. C'est un outil polyvalent capable de déposer une grande variété de matériaux, notamment des oxydes, des nitrures et des métaux. Le système utilise un procédé chimique pour produire des films minces de haute qualité, ainsi que pour assurer le contrôle et la flexibilité du procédé. Le réacteur AMAT P-5000 est l'un des outils CVD les plus populaires. L'unité est conçue pour la recherche et le développement ainsi que la production industrielle de dépôts de haute qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est une machine entièrement automatisée avec une interface graphique conviviale et une technologie d'écran tactile. Il est conçu pour être utilisé dans une salle blanche ou un petit laboratoire. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 outil de réacteur est composé de plusieurs composants. Le premier et le plus important est le réacteur principal, qui repose à l'intérieur d'une chambre à vide. A l'intérieur du réacteur principal, des gaz chauffés sont délivrés et réagissent pour créer les couches minces désirées. Les systèmes secondaires comprennent une tête de douche pour l'alimentation en gaz actif, un plasma source pour le chauffage des chambres réactionnelles, et divers détecteurs pour déterminer l'uniformité des dépôts. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 l'actif est capable d'un large éventail de processus de dépôt. Il s'agit notamment du dépôt physique en phase vapeur (PVD) de métaux, d'oxydes et de nitrures. Grâce à son fonctionnement très efficace, le réacteur P 5000 est capable de produire des films de qualité d'une grande homogénéité avec un minimum de contraintes. Le modèle offre également des recettes programmables et un contrôle avancé des processus, permettant aux utilisateurs de personnaliser les paramètres de dépôt pour obtenir des résultats reproductibles et de haute qualité. P5000 réacteur est également très polyvalent, permettant une gamme d'applications telles que le dépôt par pulvérisation de divers matériaux diélectriques et conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur de films semi-conducteurs et le dépôt en phase vapeur de polymères et de composites polymères. En tant que tel, il est largement utilisé pour la production de circuits intégrés et d'autres technologies. En général, le réacteur d'AMAT P5000 est un outil puissant et flexible pour la déposition de films minces. Il offre un contrôle des processus, de la flexibilité et des résultats reproductibles et de haute qualité. Avec son interface conviviale et son fonctionnement automatisé, l'équipement P-5000 est le choix idéal pour la recherche, le développement et la production industrielle de films de qualité.