Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293586392 à vendre en France

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ID: 293586392
CVD System (2) Chambers: Etch oxide, CVD Does not include: Pump Heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil de traitement thermique à haute température utilisé pour la fabrication de matériaux avancés, tels que des dispositifs à base de silicium, des métaux et des semi-conducteurs. Cet outil est un élément essentiel du procédé de fabrication des semi-conducteurs permettant la réalisation de circuits intégrés avec de très petites caractéristiques. Le réacteur AMAT P-5000 utilise un réacteur plasma opposé à la paroi froide verticale pour fournir des doses élevées de gaz phosphinique aux plaquettes, et est capable de maintenir des températures allant jusqu'à 850 ° C La température élevée de l'outil permet de l'utiliser pour des procédés avancés tels que la diffusion, l'oxydation, la nitridation et le dépôt d'un large éventail de matériaux, tels que des diélectriques et des métaux. En outre, l'outil peut être utilisé pour le dépôt de pulvérisateurs, donnant des films et des matériaux de meilleure qualité. LE MATÉRIEL APPLIQUÉ P 5000 est équipé avec une source CoolPlasma™ dévouée qui améliore le processus de déposition, en améliorant le taux de croissance de film et d'homogénéité aussi bien qu'en augmentant des débits et des couches par gaufrette. Par ailleurs, le réacteur comporte une boíte à gaz indépendante permettant un co-dépôt souple de différents constituants tout en protégeant la chambre principale de traitement. Un système de régulation de la température est intégré à l'outil, offrant des températures de traitement précises, une plus grande uniformité et un meilleur contrôle de la température sur les processus critiques. Un large éventail de technologies de pointe ont été mises au point au fil des ans, ce qui a permis d'utiliser l'outil dans toute une gamme d'applications, y compris le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma, le dépôt en couche atomique et le dépôt chimique en phase vapeur par voie métallisée. Le réacteur P 5000 dispose d'une gamme de caractéristiques et de technologies avancées qui en font l'un des outils de traitement thermique les plus avancés pour l'application et la production de matériaux avancés. Sa source de plasma avancée, son système de régulation de la température et sa flexibilité fournissent aux utilisateurs un outil précis et fiable pour fabriquer une variété de composants.
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