Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293587249 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de pulvérisation multi-stations conçu pour la fabrication avancée de semi-conducteurs. Il fait partie de la famille des réacteurs AMAT et est principalement utilisé pour le dépôt de couches minces pour les dispositifs semi-conducteurs avancés. AMAT P-5000 est un système à chambre unique avec une gamme de procédés de dépôt de films. Il est capable de dépôt par pulvérisation, d'évaporation et d'évaporation par faisceau d'électrons. En option, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 peuvent être utilisés pour des services supplémentaires, y compris le dépôt chimique en phase vapeur et l'implantation ionique. Un large éventail de substrats, y compris le silicium, le germanium et l'arséniure de gallium, peuvent être traités avec AMAT P 5000. Il dispose d'une tourelle tournante centrale de 55cm et est équipé de quatre cathodes de pulvérisation et de deux sources d'évaporation. P5000 est chargé avec une chambre de verrouillage de charge et un équipement de manutention de substrat pour transférer en toute sécurité et efficacement les substrats des chariots Wafer ou des pods de manutention chargés de cassettes dans la chambre de processus. La conception cylindrique de l'AMAT P5000 assure une répartition uniforme de l'épaisseur du film sur toute la surface de la plaquette. Ses recettes de procédé sont conçues pour le dépôt multicouche et peuvent atteindre une couche d'épaisseur inférieure à 0,1 micromètre. P 5000 est capable de produire des films avec une uniformité planaire de +/-2nm, une uniformité d'épaisseur totale de +/-1,5nm, et une uniformité de largeur de ligne de +/-1nm. En option, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 peuvent être utilisés avec des méthodes avancées de contrôle des procédés comme le dépôt actif de pulvérisateurs magnétron (AMS) ou le post-traitement optique (OPT). En outre, APPLIED MATERIALS P5000 est également équipé d'un ensemble robuste de dispositifs de sécurité répondant aux normes les plus élevées en matière de sécurité des opérateurs. Son système de sécurité complet a été conçu conformément à l'actuelle norme ANSI/SEMI NFPA 79 et Tous les composants de sécurité ont été conçus pour une grande fiabilité et il existe différents niveaux de dépassement manuel et automatique pour les situations d'urgence. En conclusion, le réacteur de pulvérisation multi-stations AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est un système de dépôt très avancé et fiable pour la production de couches minces. Il est suffisamment polyvalent pour couvrir un large éventail de procédés de dépôt et ses recettes de procédés permettent le dépôt de films dans des épaisseurs supérieures à 0,1 micromètre. En outre, ses caractéristiques de sécurité robustes en font l'un des systèmes de dépôt les plus fiables et sûrs disponibles aujourd'hui.