Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293604716 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de dépôt physique en phase vapeur (PVD) spécialement conçu pour la production de semi-conducteurs. Il est généralement utilisé pour des applications critiques, y compris le dépôt de couches minces avec une excellente homogénéité, un rapport d'aspect élevé (AR), le marquage par jet d'encre, le placage à haute densité de caractéristiques nano-échelle et la formation de mémoire résistive. Il est capable de structurer et d'affiner les empilements de couches complexes avec un excellent gapfill entre les matériaux et une stoechiométrie contrôlée à travers la composition. AMAT P-5000 dispose d'une technologie de contrôle de pointe pour fournir des résultats de dépôt cohérents pour des opérations de production à haut volume. Il s'agit d'une conception polyvalente, avec un équipement de contrôle centralisé des processus (CPC) intégré et un puissant système à boucle fermée triple axe. Le CPC permet aux utilisateurs d'optimiser les paramètres du processus en plus de contrôler la vitesse de dépôt des pulvérisateurs. Ses modèles de débit de gaz fournissent un contrôle standard des processus et des débits réglables pour atteindre les caractéristiques de dépôt souhaitées. Son unité de contrôle thermique permet un contrôle précis du placement, de la température et de l'uniformité de chaque couche. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise une technologie de pulvérisation à tous les axes, qui est plus efficace et donne des résultats plus cohérents que les techniques de pulvérisation planaire traditionnelles. Il a un total de quatre cathodes, deux magnétrons, et deux colonnes rotatives. Cela donne à l'ingénieur de processus la capacité d'optimiser le contrôle des processus sur plusieurs couches, donnant au résultat final un degré élevé d'uniformité et de répétabilité des processus. La machine utilise également une méthode de dépôt « à couches mixtes » qui se traduit par des couches parfaitement uniformes avec des biais de faible largeur de ligne et des parois latérales lisses. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 peuvent traiter plus de 50 matériaux de haute technologie uniques, y compris des alliages, des céramiques, des polymères et des oxydes fonctionnels. Il est compatible avec une grande variété de substrats, du CMOS standard aux semi-conducteurs composés. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 dispose également d'un outil de traitement RTP et C4 intégré, permettant aux utilisateurs d'obtenir une précision de position et des profils de surface élevés pour des résultats de la plus haute qualité. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est un outil de dépôt fiable et avancé conçu pour la production de semi-conducteurs de haute performance. Son contrôle intuitif des processus, combiné à sa technologie de dépôt précise, donne des résultats de haute qualité avec une excellente uniformité et répétabilité. P 5000 offre une solution efficace et rentable pour les procédés de dépôt.