Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293606183 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de dépôt multi-chambres conçu pour déposer des couches minces sur une variété de substrats, permettant la production d'une variété de matériaux électroniques, optiques et d'autres matériaux avancés. AMAT P-5000 a été utilisé par les fonderies de semi-conducteurs, les fabricants de panneaux plats et les fabricants de cellules solaires et de dispositifs à mémoire pour des procédés tels que l'ALD, le PVD et le PECVD. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est un réacteur de dépôt en vapeur de chimie conçu pour augmenter les vitesses de fabrication et réduire le coût de propriété, tout en fournissant des performances de procédé cohérentes. Il est capable de commutation de chambre à haut débit et de traitement parallèle modulaire de jusqu'à quatre chambres, et dispose de systèmes efficaces de transfert de chaleur et d'échappement. P5000 dispose d'un système de régulation de température à haut rendement qui permet de réduire le temps de cycle et le temps de chauffage du substrat de la première chambre à la dernière. Il est également équipé d'un système modulaire de contrôle des processus, permettant à l'utilisateur de contrôler chaque chambre indépendamment pour des paramètres de processus plus cohérents et reproductibles. AMAT P5000 est aussi capable de faire des processus multiples dans une chambre simple, en permettant le haut débit et en réduisant le temps passé en transférant des gaufrettes entre les chambres. APPLIED MATERIALS P-5000 supporte un large éventail d'options de processus et est équipé de configurations de chambres automatisées et de communications en fin de course, ce qui le rend adapté à une variété d'applications telles que le diélectrique, la barrière et les processus de gravure. Ses capacités d'autodiagnostic sont accessibles grâce à sa programmation de maintenance et de processus embarqués, qui permet un dépannage facile et des réactions rapides aux défauts ou aux anomalies de processus. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 peuvent être équipés de divers types de sources, telles que RF, haute fréquence et pulvérisation à courant continu, ainsi que de sources de faisceaux atomiques chauds et froids. Il est également capable de maintenance à distance, permettant une communication simplifiée et l'assistance des ingénieurs de processus et de maintenance. En plus de cela, il dispose d'une large gamme d'accessoires, y compris des sources à base d'yttrium, qui offrent une plus grande uniformité, et des têtes de source en titane, qui offrent une meilleure protection. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT P 5000 offre une grande homogénéité et répétabilité des processus, permettant la production d'une variété de matériaux électroniques, optiques et d'autres matériaux avancés à vitesse rapide et à faible coût. Son système de contrôle des processus le rend adapté à un large éventail d'applications, et ses capacités de maintenance à distance aident à simplifier les opérations de prise de vue et de maintenance.