Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609012 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un système de réacteur à haute performance à diodes à courant continu et à technologie de dépôt assistée par ions. Ce réacteur polyvalent est conçu pour permettre aux utilisateurs d'utiliser la meilleure technique de dépôt pour leur application en combinant les avantages du dépôt par pulvérisation et du dépôt assisté par ions. AMAT P-5000 est spécialement conçu pour la fabrication de surfaces et de composants en couches minces utilisés dans divers domaines, y compris électronique, optique, semi-conducteur, microélectronique, MEMS, biomédical, et de nombreuses autres applications. Au cœur des MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 se trouve une source d'alimentation à diode continue contrôlée par microprocesseur pour un fonctionnement précis, cohérent et reproductible. La source d'énergie est capable d'alimenter jusqu'à 20kW de puissance. Il offre un large éventail de cibles, de substrats et de gaz de traitement pour répondre à différentes exigences. APPLIED MATERIALS P-5000 peut atteindre des performances optimales grâce à sa technologie innovante de dépôt de couvertures qui offre un dépôt uniforme de haute précision dans toute la chambre paroi à paroi avec un cycle d'obturation unique. Cela aide à réduire le temps de traitement et les coûts matériels. Ses réacteurs à plasma avancés ont un total de quatre lampes qui fournissent une puissance stable et uniforme dans la chambre à plasma. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 dispose également d'un magnétron pour contrôler le taux d'émission d'électrons dans la chambre. Cela permet des débits de pulvérisation plus rapides et une meilleure uniformité du dépôt. P5000 fournit un certain nombre de caractéristiques supplémentaires qui en font un excellent choix pour la fabrication réussie d'une large gamme de substrats en couches minces. Il comprend un indexeur automatisé pour éviter tout désalignement du substrat. Son contrôle de pression permet une pression de vide optimale dans la chambre et sa fonction de chauffage du substrat peut être utilisée pour améliorer le rendement et la qualité du dépôt. AMAT P 5000 offre d'excellentes performances, stabilité et facilité d'utilisation. Il peut être utilisé pour fabriquer efficacement une large gamme de substrats à couches minces avec une uniformité et une précision supérieures. Cela en fait un outil idéal pour produire des supports uniques et performants pour diverses applications.