Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609327 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de réacteur à dépôt physique en phase vapeur (PVD) avancé, utilisé pour le dépôt en couches minces pour la production de dispositifs structuraux et optoélectroniques complexes dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur dispose d'une source intégrée d'évaporation à basse température avec un support de substrat en quartz à haute température, qui fournit des procédés de dépôt fiables et efficaces. AMAT P-5000 comprend également un système innovant de transfert de substrat, qui permet de transférer jusqu'à 20 plaquettes par minute et assure des temps de cycle plus courts. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 a plusieurs conceptions de chambres différentes, qui sont tous conçus pour maximiser la productivité et les performances. La conception de poche double permet à la fois standard et à mi-fréquence plasma RF, tandis que la conception de poche divisée offre un isolement gazeux supplémentaire, une orientation angulaire supérieure et un transfert de plaquettes extrêmement rapide. Toutes les chambres sont également équipées de régulateurs de température de pointe, qui assurent un contrôle fiable des procédés et un dépôt uniforme des couches minces. APPLIED MATERIALS P-5000 comprend également plusieurs autres technologies de pointe, telles qu'une unité de dépôt multicouche à couches minces qui permet le dépôt de multicouches complexes au sein d'un même procédé, ainsi que la technologie du four à haut débit pour le déploiement rapide des substrats. En outre, la machine comprend un certain nombre de capteurs, de moniteurs et de systèmes de contrôle, qui fournissent une rétroaction en temps réel et une capacité de diagnostic à l'opérateur. Cela permet à l'opérateur d'ajuster les paramètres si nécessaire et d'améliorer considérablement la stabilité et la fiabilité du processus. L'outil comprend également plusieurs caractéristiques de sécurité, comme un atout d'auto-grossissement qui ferme automatiquement les précurseurs dans le cas d'un arc plasma inattendu à haute énergie, ainsi que le mode manuel du réacteur Batch, qui permet un contrôle manuel complet sur les baigneurs et leur fonctionnement. En outre, le modèle AMAT P 5000 peut être enrichi avec des pompes à vide externes, telles que les pompes à hélium, pour assurer des conditions de processus propres. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un équipement puissant et fiable de réacteur PVD. Avec ses différentes conceptions de chambres, ses technologies avancées et ses caractéristiques de sécurité, il garantit des processus de dépôt précis et efficaces, tout en garantissant la stabilité et la fiabilité des procédés.