Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609328 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de gravure à plasma de pointe utilisé pour la gravure de matériaux semi-conducteurs et de circuits intégrés. Ce réacteur de gravure plasma est conçu pour assurer des résultats précis et reproductibles avec des performances d'uniformité avancées. Il dispose d'une source de plasma avancée, conception de chambres de processus, systèmes de manutention de plaquettes, et un système de contrôle intuitif. AMAT P-5000 est conçu pour fournir des procédés de gravure plasma de haute précision et efficaces pour de nombreux matériaux différents. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur de gravure à plasma P 5000 est constitué d'une chambre de procédé, d'une source d'énergie radio fréquence haute fréquence (RF), d'une pompe à vide et d'un robot de transport. La chambre de procédé est en acier inoxydable et est hermétiquement scellée pour assurer un environnement sous vide contrôlé. A l'intérieur de la chambre de procédé se trouvent deux électrodes, l'une en forme de porte-substrat, l'autre en forme de magnétron cylindrique creux. Le porte-substrat sert à transporter le substrat et à fournir la tension appliquée entre lui et l'électrode magnétron. L'électrode magnétron est capable de produire un faisceau de protons oscillant, qui ionise les molécules de gaz à l'intérieur de la chambre. La source d'énergie RF haute fréquence fournit l'énergie pour créer et maintenir le plasma dans la chambre. Le magnétron fonctionne typiquement à une fréquence de 13,56 MHz, mais d'autres fréquences peuvent être utilisées. La source d'énergie RF contient également une alimentation, un guide d'onde et un réseau d'adaptation. L'alimentation fournit la puissance continue et RF, et le guide d'onde et le réseau d'adaptation régulent le signal pour assurer des conditions plasmatiques optimales. La pompe à vide assure que la chambre est exempte de gaz indésirable, fournissant une pression de base de 10-4 Torr. Un robot de transport est utilisé pour augmenter le débit, permettant de traiter plusieurs plaquettes en même temps. En outre, AMAT P5000 dispose d'un système de contrôle intuitif, permettant aux utilisateurs d'ajuster facilement les paramètres du processus de gravure. AMAT P 5000 est un réacteur de gravure plasma très avancé, capable de graver avec précision les semi-conducteurs et les circuits intégrés avec des résultats reproductibles. Avec sa source d'alimentation RF avancée, la conception de la chambre de processus, le robot de transport, et intuitif système de contrôle convivial, P 5000 est capable d'offrir d'excellentes performances de processus.