Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293610276 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma de haute technologie conçu pour les procédés de gravure et de dépôt de précision utilisés dans la fabrication avancée de semi-conducteurs. Le réacteur dispose d'une géométrie de chambre verticale contrôlée par le processeur, capable de fournir une gamme de paramètres de processus dans un environnement gazeux étroitement contrôlé. En utilisant une 450mm-large chambre de plasma de pression basse, AMAT P-5000 permet des pas de déposition et de gravure à l'eau forte extrêmement exacts en reconnaissant des caractéristiques de gaufrette telles que la platitude et le taux d'expansion thermal. De plus, le système de contrôle de la pression du procédé et le servomoteur adaptatif de contrôle du procédé aident à atteindre la chimie et la vitesse de dépôt souhaitées avec une précision étonnante. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 présente l'avantage d'un plasma Ar-Azote contrôlé avec des étapes de dépôt in situ. Ce réacteur multitâche est également capable d'introduire des dopants à haute réactivité et excellente sélectivité, permettant un réglage précis des paramètres du dispositif des diodes, mémoires et interrupteurs. Le modèle ultra-rapide du Matériau Appliqué AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 permet une vitesse de dépôt allant jusqu'à 20 nm par minute. Cela aide à reconnecter rapidement les atomes qui ont été préalablement brisés ou ont dérivé. Il permet également de traiter plusieurs couches en même temps, ce qui réduit le nombre d'étapes et le temps nécessaire à l'intégration des éléments. De plus, le P 5000 intègre un système de contrôle de la température en temps réel. Cela aide à réduire le nombre de réticules nécessaires, tout en assurant la précision du processus de gravure et de dépôt. De plus, la fonction de fermeture P/N améliorée permet d'éviter les courts-circuits et de maximiser les rendements des matrices. De plus, la fonction de mesure automatique du point d'extrémité surveille et examine de manière productive les étapes du processus de l'appareil dans une vaste gamme de paramètres. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur puissant et hautement configurable qui peut être utilisé dans une large gamme de procédés de gravure et de dépôt de semi-conducteurs. Il est capable de fournir des paramètres de processus précis et un contrôle automatisé des processus assistés par la température, ce qui garantit une cohérence et des rendements élevés avec des réticules minimisés.