Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293610620 à vendre en France
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ID: 293610620
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
CVD System, 8"
VME Type: Hard disk
21-Slots controller
SBC Board type: V21 Synergy
VGA Video board
Robot type: Phase-III
8-Slots storage elevator
No WPS sensor
Standard slit valve
Heat exchanger
Floppy Disk Drive (FDD): 3.5"
Standard cassette handler
I/O Wafer sensor
No Load lock slow vent
Load lock purge
Exhaust line type: Top, standard
Gas panel: (28) Gas lines
Chamber type:
Chamber A: Universal CVD
Chamber B: Standard CVD
Chamber A, B:
Process: PECVD Oxide
Process kit: Susceptor
MKS Manometer, 100 Torr
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
Gas box MFC: AERA
Lamp driver
ENI OEM-12B RF Generator
RF Match: Phase-IV
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est une chambre de réacteur avancée spécialement conçue pour les applications de procédés semi-conducteurs. Cette chambre de réacteur offre une large gamme de caractéristiques qui lui permettent de fournir des performances et un contrôle supérieurs dans une variété d'applications. La chambre du réacteur est en acier inoxydable de haute qualité et est traitée au nitrure pour la protection contre la corrosion. La chambre est configurée pour le traitement de plaquettes AMAT P-5000 avec un rayon de 30.7cm, une largeur de chambre de 45.7cm et une hauteur de chambre de 39cm. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre du réacteur P 5000 utilise un système de contrôle de processus entièrement automatisé qui peut être mis en place pour permettre un large éventail de paramètres définis par l'utilisateur tels que la pression de la chambre, la température, la température du substrat, le cycle thermique et le débit de gaz. Le système de contrôle du processus comprend également un enregistreur de données intégré qui stocke l'information du processus et peut être récupéré pour analyser les tendances et déterminer les meilleurs paramètres pour une application particulière. Cela permet d'améliorer la fiabilité et la précision des résultats de traitement. La chambre du réacteur comporte également un panneau de gaz avec deux collecteurs et régulateurs de gaz distincts. Le panneau de gaz permet de contrôler les gaz fournis par chaque collecteur, ainsi que la pression et le débit des gaz. Cela permet à l'utilisateur d'ajuster les conditions du processus pour obtenir les résultats souhaités. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre du réacteur P 5000 est conçue pour être installée dans un environnement de travail exempt de débris environnementaux, de poussières et d'autres particules. La chambre est équipée d'un câble de décharge statique pour aider à minimiser l'accumulation d'électricité statique dans la chambre. La chambre est équipée d'un système automatisé de purge d'azote et d'un orifice d'entrée. L'orifice d'entrée est conçu pour permettre l'arrivée d'azote chauffé et d'autres gaz de procédé dans la chambre. Cela permet de maximiser l'efficacité et la cohérence du processus. De plus, la chambre du réacteur P 5000 est conçue pour un entretien simple et facile. La chambre comprend des joints amovibles supérieurs et inférieurs à l'intérieur de la chambre qui peuvent être facilement enlevés pour permettre un nettoyage et un entretien périodiques de la chambre. Cela réduit les temps d'arrêt et permet à l'utilisateur de poursuivre le traitement sans interruption. La chambre du réacteur AMAT P5000 est un outil avancé et fiable pour les applications de traitement des semi-conducteurs. Ses caractéristiques le rendent adapté à une variété d'applications et son entretien est simple et efficace. Avec un fonctionnement et un entretien adéquats, cette chambre de réacteur peut contribuer à garantir des résultats de haute qualité et un fonctionnement fiable à long terme.
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