Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293616570 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur d'implantation ionique par immersion plasmatique (PIII) à simple tranche, à haut débit. Il s'agit d'un système polyvalent adapté à un large éventail d'applications, allant de l'emballage avancé et de l'intégration des dispositifs à la R&D et à la fabrication à haut volume. AMAT P-5000 offre une excellente homogénéité de dose maximale et une excellente répétabilité wafer-to-wafer, ce qui en fait le choix privilégié pour les applications critiques telles que TSV, oLED, MEMS, FinFET et 3D-ICs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est équipé d'une serrure à double poche en mode forcé capable de traiter des plaquettes de six pouces, ainsi que d'une chambre scellée contenant des assemblages avancés de source de plasma et de confinement magnétique. La conception à deux poches garantit que les plaquettes sont facilement chargées/déchargées à des moments raisonnables pour améliorer le débit. P5000 dispose également d'un système de contrôle informatisé avec une interface graphique conviviale pour une configuration facile, le contrôle des paramètres et l'acquisition de données. Il comprend tous les paramètres nécessaires, les moniteurs et les alarmes pour un fonctionnement efficace. Avec un design de chambre profonde et un support de substrat sphérique unique, APPLIED MATERIALS P-5000 peut maintenir les plaquettes en pleine réflectance, ce qui permet une homogénéité optimale entre les plaquettes et la répétabilité des processus. La puissante source de plasma et les assemblages avancés de confinement magnétique assurent un bombardement ionique homogène sur l'ensemble de la plaquette avec une excellente uniformité sur son diamètre. Une caractéristique clé d'AMAT P5000 est sa capacité d'implantation à basse énergie. Avec une plage d'énergie du faisceau de 1 à 100 keV et une dose totale sur plaquette pouvant aller jusqu'à 600 uC/cm2, le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 fournit l'efficacité des implants de pointe et le contrôle de la dose d'ions. Combiné à une performance d'uniformité < 2 %, P-5000 est parfait pour des applications d'implantation exigeantes et de haute précision sur les marchés de l'automobile, de la médecine et de l'électronique grand public. En combinaison avec son contrôle rigoureux, son optimisation et sa répétabilité, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est très fiable, stable et efficace pour implanter des dopants dans des substrats. C'est un excellent choix pour la R&D ainsi que pour une production à haut volume.