Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293620909 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma avancé conçu pour améliorer la production et la pureté des matériaux semi-conducteurs composés utilisés dans des applications telles que la microélectronique et les dispositifs optoélectroniques. En utilisant une haute pression, unique, la source de plasma inductivement couplé (ICP), AMAT P-5000 le réacteur est capable de produire le matériel de semi-conducteur de haute qualité avec la performance améliorée, les plus hautes productions et les propriétés améliorées comparées aux techniques de déposition de température basse conventionnelles. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est équipé d'une conception unique et brevetée qui offre un contrôle de processus supérieur et une uniformité par rapport aux sources ICP traditionnelles. La source de plasma utilise la technologie de condensateur avancée pour générer la base d'un panache de plasma bidimensionnel avancé avec des densités plus élevées et des angles de pas contrôlés. Cela fournit une plus grande variété de paramètres de processus souhaitables et donne des matériaux de meilleure qualité. Le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 utilise un procédé de dépôt capable de générer des matériaux semi-conducteurs composés ultra-purs de haute qualité tels que l'arséniure de gallium (GaAs), le nitrure de gallium (GaN), le phosphure d'indium gallium (InGaP) et d'autres matériaux III-V. Le réacteur permet le dépôt en phase vapeur de couches fonctionnelles sur des substrats refroidis à des températures aussi basses que -20 degrés Celsius (° C), ce qui permet la formation de contacts électriques de haute qualité et la mise en gris. Cette source avancée du PIC ne nécessite pas l'ajout de gaz de gravure ou de nettoyage pour un traitement efficace et repose plutôt sur une forte consommation de puissance de dépôt pour un dépôt uniforme des films. Cette caractéristique réduit également les déchets et la pollution causés par les processus de gravure et de nettoyage. Le réacteur AMAT P 5000 est équipé d'une solution de puissance brevetée unique qui régule l'apport énergétique lors du dépôt, fournissant un processus de dépôt uniforme et répétable. La sensibilité du système à la modification des paramètres du processus permet à l'utilisateur d'effectuer des ajustements rapides et d'optimiser rapidement le processus de dépôt. La polyvalence et la gamme des paramètres de procédé possibles avec le réacteur P 5000 AMAT/APPLIED MATERIALS permettent son utilisation dans diverses applications telles que la fabrication de LED, de circuits intégrés et de dispositifs optiques. Le réacteur P 5000 est construit avec un châssis solide pour une fiabilité maximale. Il s'appuie sur des options de service complètes pour l'exploitation et la maintenance quotidiennes. Dans le résumé, AMAT P5000 est un réacteur de plasma avancé utilisé dans la fabrication de matériel de semi-conducteur composé pour les applications telles que la microélectronique et optoelectronics. Il est doté d'une source unique de PIC haute pression, permettant le dépôt en phase vapeur de couches fonctionnelles sur des substrats refroidis, ainsi que d'un revêtement uniforme et répétable. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un choix idéal pour obtenir des matériaux ultra purs de haute qualité avec des performances améliorées, des rendements plus élevés et des propriétés améliorées par rapport aux techniques traditionnelles de dépôt à basse température.