Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293622411 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de dépôt de couche atomique à l'échelle de la production. Ce réacteur est conçu pour le dépôt à haut débit de nitrures, d'oxydes et de fluorures sur de grands substrats. Le réacteur est construit sur une plate-forme multi-étages, permettant le dépôt de plusieurs couches de matériaux différents en une seule fois. Sa chambre de traitement est en acier inoxydable et est supportée par un projecteur à quartz à face graphite pour assurer une température uniforme sur la plaquette. Le réacteur est alimenté par un équipement Micro Balance (QCM) à quartz avec une vitesse de dépôt cible de 30-200 A/min. Les films déposés sont homogènes en épaisseur, conformes et sans trou d'épingle. AMAT P-5000 dispose d'un système d'auto-étalonnage ABC à deux niveaux de précision, qui permet de contrôler la température du substrat avec une marge d'erreur aussi faible que 0,5 ° C Couplé à cette unité sont des dispositifs de sécurité avancés, tels que la machine de disjoncteur et le Over/Under Temperature Shutoff. Ces systèmes de sécurité coupent l'alimentation de la chambre si la température dépasse les limites de sécurité, ce qui élimine le risque d'endommagement des plaquettes. De plus, son outil de purge optionnel assure la détection et l'évacuation de particules et de gaz à l'intérieur de l'enceinte afin de réaliser des films sans trou d'épingle. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 offre également un actif avancé de gestion du gaz multi-canaux. Ce modèle est conçu pour un contrôle précis et fiable de la séquence de dépôt. Il comprend un logiciel spécial, permettant d'évaluer tous les paramètres de processus pour optimiser la qualité et le débit du film. De plus, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est flexible et personnalisable. L'utilisateur a la possibilité de configurer ses propres séquences de processus et d'ajuster les paramètres de dépôt afin de répondre à ses besoins spécifiques d'application. En général, AMAT P5000 le réacteur de déposition de couche atomique est un outil puissant et fiable pour la déposition de haute qualité de films minces. Il offre des caractéristiques de sécurité avancées et des systèmes de contrôle précis pour garantir la qualité et la cohérence. Avec sa plate-forme personnalisable et son interface conviviale, ce réacteur est un choix idéal pour le dépôt à l'échelle de la production de nitrures, d'oxydes et de fluorures.