Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293637028 à vendre en France
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ID: 293637028
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2013
Etcher, 8"
Orient MxP (Optima type)
(3) Poly chambers
Does not include pump or chiller
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement entièrement automatisé, mini-fabulateur, simple wafer de contrôle de procédé avancé de réacteur utilisé pour les applications de gravure et de dépôt dans l'industrie des semi-conducteurs. AMAT P-5000 est capable de fournir un débit supérieur avec sa combinaison de précision, de répétabilité et de contrôle de processus à haut rendement. Il est capable de contrôler les paramètres de gravure, d'oxydation, de nitrocarbonisation et de dépôt métallique pour répondre à un large éventail de besoins de gravure et de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 utilise une combinaison de procédés physico-mécaniques et chimiques pour réaliser la gravure chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de couches minces. Au cœur du système se trouve sa capacité à contrôler précisément la température, la pression et la compositionnalité chimique fonctionnant dans la chambre tout en effectuant une multitude de processus de gravure/dépôt. L'unité comprend une machine de livraison de gaz chimique avec des capacités de mélange multi-gaz, un outil de distribution de pression de chambre, ainsi qu'un matériel de nettoyage de chambre physique-mécanique. Le modèle comprend également un équipement de transport et de manipulation de la toile capable de supporter des produits à la fois minces et épais. P 5000 utilise une source d'énergie plasma RF pour pomper des photons dans la chambre, améliorant les taux de gravure et de dépôt. La température de la chambre est maintenue constante grâce à l'utilisation d'un thermocouple dans le système de mise à la masse qui ajuste la puissance de l'élément chauffant et le contrôle de la rétroaction. Un régulateur de débit massique est alors utilisé pour ajuster l'écoulement des produits chimiques de gravure dans la chambre et les gaz CVD sont alors amenés à provoquer le dépôt de la couche mince. La chambre de réaction de P-5000 est également utilisée pour graver avec des produits chimiques tels que le peroxyde d'hydrogène, les acides fluorhydriques et nitriques. La température de la chambre est maintenue à l'aide d'une unité de contrôle de puissance thermocouple ainsi que d'un ordinateur de bord avec un logiciel intégré pour aider à contrôler et surveiller les conditions du processus. De plus, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 utilise un spectromètre d'émission optique pour aider à détecter et mesurer les espèces gazeuses dans la chambre pendant les processus de gravure et de dépôt. Dans l'ensemble, P5000 est une machine de contrôle de processus incroyablement robuste et fiable pour la gravure/dépôt de couches minces et d'autres procédés semi-conducteurs. L'outil offre un débit, une précision et une répétabilité supérieures, ce qui donne un rendement moyen de 75 à 90 % avec des résultats de processus cohérents. En utilisant AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000, les développeurs de procédés semi-conducteurs et les ingénieurs peuvent être assurés d'obtenir des résultats de haute performance tout en réduisant le temps et le coût des cycles de fabrication, conduisant à des produits plus fiables.
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