Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293677299 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil CVD (chemical vapor deposition) utilisé pour déposer des couches minces sur des circuits intégrés. Cet équipement de dépôt de pointe présente une conception unique qui permet un dépôt uniforme sur n'importe quelle surface ou substrat, offrant un niveau inégalé de reproductibilité et de contrôle des procédés. Le réacteur AMAT P-5000 est composé de trois sections principales : la serrure de charge, la chambre de traitement et la chambre d'échappement. La serrure de chargement est conçue pour le chargement et le déchargement faciles des échantillons, fournissant un processus rapide et pratique pour le chargement et le déchargement des plaquettes. La chambre fermée est construite avec une conception multicouche à double enveloppe pour une meilleure uniformité de température et de pression. La chambre d'échappement est équipée d'un système de filtration robuste convenablement conçu pour la sécurité, ainsi que d'une vanne automatisée pour maintenir la pression optimale de la chambre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 peut traiter jusqu'à cinq substrats simultanément et est extensible pour traiter jusqu'à 20 substrats à la fois. Cette souplesse permet d'augmenter le débit ainsi que la capacité d'effectuer des dépôts à grande échelle. La machine est équipée de multiples capacités telles que le dépôt partiel et complet de films, ainsi que des technologies de découpage des bords, ce qui la rend adaptée à un large éventail de tâches de dépôt. En outre, le réacteur AMAT P 5000 est équipé d'une gamme de caractéristiques avancées pour fournir un contrôle de processus supérieur. Ces caractéristiques comprennent un outil d'acquisition de données utilisant des ASIC (circuits intégrés spécifiques à l'application) pour la surveillance en temps réel, le contrôle de la température à +/- 0,5 degrés Celsius sur toute la surface de la chambre, un taux de transfert de chaleur élevé pour une rafraîchissement plus rapide de la température, et une paroi de chambre à faible réflexion pour améliorer l'uniformité et la répétabilité des processus. P-5000 réacteur s'est avéré être un atout inestimable pour les fabricants de circuits intégrés, fournissant les solutions de dépôt les plus fiables et les plus rentables pour tout circuit intégré. Il est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs, de la recherche et développement à la production à grande échelle, en raison de son contrôle supérieur des procédés et des résultats supérieurs.