Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293690469 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement avancé de fabrication de dispositifs à transistor vertical à haut débit. Il est utilisé pour le traitement de dispositifs ultra-performants, offrant des performances, un rendement et une fiabilité inégalés. Le dispositif est capable de traiter des plaquettes de un à six pouces de diamètre. Il utilise un socle en quartz à paroi chaude chauffée inductivement pour le chauffage du substrat, et est capable de 200W de puissance absorbée jusqu'à 500 ° C jusqu'à 15min. La température maximale peut être fixée à 1250 ° C Le système est livré avec une fonction de nettoyage plasma automatique et une unité de contrôle de processus contrôlée par ordinateur. L'alignement pédastal AMAT sur substrat est capable de traitement par lots et par tranche unique. Il offre également un transfert rapide des plaquettes entre les modules de processus et de transfert. Il fournit également une machine de manutention de plaquettes très flexible et précise. Le réacteur AMAT P-5000 est équipé d'une source hyperfréquence de résonance cyclotron électronique avancée (ECR) pour le dépôt chimique en phase vapeur enrichi en oxygène et en silicium (PECVD). Ce procédé permet des densités élevées et des dépôts de haute qualité. Le réacteur PECVD est capable de traiter des températures allant jusqu'à 900 ° C et peut atteindre une vitesse de dépôt allant jusqu'à 6 microns par minute. MATÉRIEL APPLIQUÉ L'outil P 5000 dispose également d'une fonction de contrôle de la température et de l'oxygène, qui fournit le plus haut niveau de contrôle sur les paramètres du processus. Il offre également une pression de procédé ajustable et de l'énergie plasma pour fournir un haut degré d'uniformité dans le processus de dépôt de substrat. L'actif offre également une fenêtre transparente de transfert de plaquettes de quartz. Cette caractéristique permet de surveiller à la fois la chambre et les plaquettes avec microscopie optique, réflexion ultraviolette (UV), ou rayonnement infrarouge (IR). Dans l'ensemble, P-5000 réacteur est un modèle avancé de fabrication de dispositifs à transistor vertical à haut débit qui est capable d'assurer un traitement, un rendement et une fiabilité des dispositifs ultra-performants. Il offre une large gamme de fonctionnalités et de capacités qui le rendent idéal pour la fabrication de dispositifs à transistor performants et peu coûteux.