Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293690473 à vendre en France

Le réacteur « AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 » est un outil de procédé monobloc utilisé principalement dans l'industrie des MEMS et des semi-conducteurs, fournissant des procédés de haute précision et de haute performance, y compris le dépôt de couches minces. AMAT P-5000 utilise une source de dépôt sous vide pour déposer des couches de couches minces sur des plaquettes de silicium. C'est un équipement de pointe pour les applications semi-conductrices, MEMS et optoélectroniques. Le système consiste en une conception modulaire permettant jusqu'à quatre sources de plaquettes fonctionnant en même temps dans une configuration 1x2x2. L'unité dispose également d'une machine robotique pour la manutention des substrats, qui est conçue pour fonctionner jusqu'à 4 « substrats, mais permet également 5 » de déroulement de processus. Le procédé de dépôt en couches minces disponible dans APPLIED MATERIALS P 5000 permet le dépôt du matériau avec uniformité sur l'ensemble de la plaquette. Une autre caractéristique de cet outil est les procédés d'oxydation et de nitridation intégrés, qui permettent le dépôt de matériaux oxydés. La technologie avancée des plaquettes minces utilisée par P5000 permet au processus de dépôt d'être plus précis et uniforme par rapport aux autres équipements disponibles. L'actif est spécifiquement conçu pour cibler des couches de couches minces aussi petites que 10nm. Les chauffages substrat sont activement contrôlés et chauffés jusqu'à des températures élevées pendant le processus assurant une meilleure homogénéité et des couches minces uniformes. En outre, le modèle est équipé de sources d'énergie RF, DC et micro-ondes, qui permettent la synthèse de matériaux et de structures complexes. L'équipement permet des débits élevés, car il peut traiter jusqu'à 50 plaquettes par heure. Tous les paramètres liés au processus de dépôt peuvent être contrôlés par le système de contrôle intégré, ce qui permet d'optimiser les paramètres pour chaque processus de dépôt. En outre, l'unité est conçue pour accueillir un large éventail de matériaux de substrat et d'épaisseur de substrats. En conclusion, le P 5000 est une machine de pointe pour les procédés de dépôt en couches minces et est spécialement conçu pour les besoins du MEMS et des semi-conducteurs. C'est un excellent outil pour la recherche et le développement car il permet un dépôt précis en couches minces et une uniformité sur l'ensemble de la plaquette. Avec des fonctionnalités telles que les systèmes de régulation de température et la manutention automatisée, P-5000 est un outil puissant et fiable pour les dépôts en couches minces.