Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293690474 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de pointe conçu pour répondre aux exigences de précision de la fabrication de semi-conducteurs. Cet outil de gravure avancé comprend un module tout-en-un qui intègre une chambre non accumulative, une chambre d'isolation ultra-mince et une chambre d'implantation ionique. Avec une attention particulière au contrôle et à la flexibilité des procédés, le réacteur AMAT P-5000 permet une fabrication efficace des couches de dispositifs critiques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est conçu pour travailler en collaboration avec des outils avancés de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) et des filtres à particules, fournissant des plaquettes semi-conductrices aux propriétés électriques et structurelles exigeantes. Transportant efficacement les plaquettes à travers le processus de gravure, il offre un centrage et une orientation automatiques des plaquettes ainsi que des garnitures en haut et en bas de chaque substrat. AMAT P5000 dispose d'une chambre améliorée qui utilise des pompes à double vide pour un meilleur contrôle des processus et des facteurs de sécurité améliorés. La conception avancée de la chambre offre également un haut degré d'uniformité, permettant aux utilisateurs d'atteindre des caractéristiques électriques uniformes sur l'ensemble du processus. Le contrôle du réacteur est essentiel au processus de gravure, et le P 5000 utilise un système interne de contrôle de la température avec des dispositifs de chauffage indépendants et des capteurs de température pour fournir un contrôle précis de la température dans la chambre. Ce système de commande est également utilisé pour assurer un débit et une pression constants des gaz réactifs. Le module d'implantation ionique double d'AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est capable de fournir une large gamme d'énergies à travers une gamme de températures et de tailles de substrat. Cette fonctionnalité permet un fonctionnement précis, offrant aux utilisateurs une grande flexibilité pour une variété d'applications de gravure. De plus, les plaques formant faisceau du module sont conçues pour créer un faisceau large et bien focalisé pour une diffusion uniforme et même la formation de parois latérales. Alliant une ingénierie de pointe à une capacité de traitement experte, le réacteur AMAT P 5000 est le choix idéal pour des applications de gravure avancées de haute précision. Sa conception sophistiquée et ses contrôles fiables fournissent la précision et la précision requises par les fabricants de pointe d'aujourd'hui. Atteignant les caractéristiques les plus complexes des dispositifs à circuits intégrés, le réacteur APPLIED MATERIALS P-5000 est un atout inestimable dans la phase de gravure des dispositifs à semi-conducteurs.