Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293758508 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de gravure haute performance conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. L'équipement est capable de fournir les étapes critiques nécessaires à la fabrication du dispositif, y compris la gravure, le dépôt et la planarisation. Il est optimisé pour la production de structures ultra-peu profondes, critiques pour les nœuds avancés et les appareils de nouvelle génération. La plate-forme de réacteur AMAT P-5000 utilise l'optique numérique de balayage pour fournir une uniformité de haute résolution et des débits de plaquettes optimisés dans toute la chambre de processus. Il est composé d'une chambre à vide propriétaire avec des modules de gaz intégrés, des composants de chambre de processus, et l'optique numérique de balayage. Ces composants sont conçus pour assurer les performances et la fiabilité les plus élevées possibles. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur de gravure P 5000 est capable de fournir un large éventail de procédés de gravure, y compris la gravure de silicium, la gravure de tungstène et d'autres matériaux avancés. Le système utilise une variété de chimies de gravure pour fournir une haute sélectivité et l'uniformité de processus. L'unité intègre également des procédés de gravure améliorés par plasma pour augmenter les taux d'élimination et une meilleure uniformité. Le réacteur AMAT P5000 dispose d'automatismes et de diagnostics avancés pour garantir des rendements de processus élevés. Il est intégré à un module d'accord de chambre en temps réel qui surveille les paramètres plasmatiques et s'ajuste activement pour une performance optimale du procédé. Il dispose également d'un moniteur de traitement haute résolution pour saisir et traiter les données de toute la gamme de paramètres et de séquences. P5000 réacteur est hautement configurable et capable de s'adapter à pratiquement toutes les exigences du procédé. Son environnement logiciel permet aux ingénieurs d'ajuster rapidement les paramètres et les programmes pour traiter un large éventail de matériaux. La machine est capable d'une redondance totale et d'une capacité d'échange à chaud, assurant un fonctionnement continu et des temps d'arrêt réduits. P-5000 Etch Reactor est conçu pour répondre aux exigences les plus strictes et est le choix idéal pour toute application nécessitant un traitement de gravure haute performance. Sa conception fiable et son automatisation avancée garantissent des rendements et une uniformité élevés, ce qui en fait la solution parfaite pour toute application semi-conductrice.