Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293759466 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt avancé conçu pour un large éventail de procédés, allant des films de haute précision aux films diélectriques, aux films photorésistants et autres films spécialisés pour des applications électroniques, optiques et autres. AMAT P-5000 offre une flexibilité complète pour contrôler les variables de processus, et dispose d'une chambre avancée PECVD avec source de plasma haute performance et traitement optimisé du substrat, ainsi que d'un système de positionnement automatique de substrat de haute précision. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les solutions de processus de P 5000 sont conçues pour améliorer l'uniformité et la couverture des étapes, réduire la résistivité et optimiser la contrainte. Il offre un débit avancé, l'uniformité, et la répétabilité de la plaquette à la plaquette. P5000 permet de traiter un large éventail de matériaux, dont le silicium, l'arséniure de gallium, le nitrure de gallium et le phosphure d'indium. En plus de l'uniformité améliorée et des avantages de couverture d'étape, P 5000 offre également un contrôle de processus amélioré qui assure la précision et la répétabilité pour les films désirés. Ses algorithmes de contrôle automatique adaptatif des processus permettent d'accéder en temps réel aux paramètres de dépôt et permettent aux utilisateurs d'ajuster les conditions de dépôt en fonction des critères du film, garantissant les résultats souhaités. De plus, AMAT P 5000 offre une flexibilité supplémentaire en permettant à l'opérateur de commuter la taille, le type et la composition de la chambre au milieu du dépôt du film. L'unité dispose également d'un sous-système avancé de traitement automatisé des substrats, avec une machine automatisée de contrôle des réclamations, un contrôle de la température et des capacités spéciales de manutention des gaz pour les matériaux spécialisés. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est conçu pour fonctionner à grande vitesse et est conforme à toutes les réglementations environnementales pertinentes de l'industrie des semi-conducteurs. Il est équipé d'une filtration à l'air pur et d'une surface passivée en acier inoxydable qui empêche toute réaction chimique pendant le fonctionnement. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 offrent des avantages importants dans la fabrication de structures en couches minces par rapport aux méthodes traditionnelles de dépôt telles que la pulvérisation et l'évaporation thermique. Grâce à sa source de plasma haute performance et au traitement optimisé du substrat, APPLIED MATERIALS P5000 offre uniformité et couverture, un meilleur contrôle du film et un meilleur débit. P-5000 est utilisé dans une variété d'industries, y compris l'électronique, l'optoélectronique, la photonique, le stockage de données, le médical, et plus encore.