Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293760279 à vendre en France

ID: 293760279
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Etcher.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un système de dépôt chimique à haute performance en phase gazeuse conçu pour le traitement des plaquettes épitaxiées. Le réacteur est conçu pour assurer un contrôle précis de la température, de la pression, du temps et des débits de gaz, ce qui permet des performances, une répétabilité et une fiabilité supérieures. AMAT P-5000 peut être utilisé pour la culture de films de métaux ultra-minces et d'oxydes métalliques sur une variété de substrats dont Si, Ge, Si/Ge et Si/SiO2/Ge/SiO2. Il utilise la technologie de l'ultra-vide (UHV) pour créer un environnement très propre et stable pour le dépôt vaporisé non-équilibre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 offre une excellente uniformité et contrôlabilité des films déposés et produit des résultats cohérents et reproductibles. Les paramètres de croissance sont précisément réglés à l'aide d'une interface informatique, tandis que le contrôleur intégré et le langage de programmation convivial garantissent un fonctionnement facile et efficace. AMAT P 5000 peut également être équipé d'une gamme de capteurs dynamiques permettant le suivi en temps réel du processus de croissance, ainsi que la caractérisation in situ des films déposés. P5000 est également capable de techniques de dépôt classiques telles que la pulvérisation et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Avec sa flexibilité, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 permet la croissance facile de différents systèmes de matériaux sur un seul substrat de plaquette en une seule fois. En outre, APPLIED MATERIALS P5000 est de petite taille et consomme moins d'énergie que les réacteurs traditionnels en raison de son efficacité de conception. En conclusion, le réacteur d'AMAT P5000 est un réacteur avancé fournissant le contrôle précis de température, pression et écoulement du gaz et taux pour la déposition de films d'oxyde en métal et en métal ultra-minces. Il est de taille compacte, consomme moins d'énergie que les réacteurs traditionnels et offre une flexibilité dans le traitement d'une variété de matériaux sur une seule plaquette. En outre, ses contrôleurs intégrés et son langage de programmation convivial rendent le fonctionnement du système sans tracas.
Il n'y a pas encore de critiques