Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293765825 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la fabrication à haut volume de produits semi-conducteurs avancés. AMAT P-5000 est un système de production multi-chambres innovant, efficace et fiable qui peut produire des plaquettes, des transistors et des micro-dispositifs de très haute qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La P 5000 utilise un processus de production parallèle entièrement automatisé, permettant des capacités de débit élevées et une meilleure qualité des produits. Son bras robotique à grande vitesse fournit des dépôts de matériaux précis, conformes, reproductibles et efficaces pour obtenir des résultats de production optimaux. Il est équipé d'une unité de surveillance active des processus de pointe, qui suit les paramètres des processus et détecte les conditions de non-tolérance. En outre, la machine peut être configurée avec jusqu'à quatre chambres de traitement, offrant la flexibilité nécessaire pour répondre à certaines exigences des clients. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le procédé de dépôt sous vide ultra-élevé de P-5000 peut fournir une excellente uniformité et performance pour une variété de substrats. L'outil à vide est composé de plusieurs composants, dont une vanne à grille minérale isolée de 8 pouces, une pompe turbo moléculaire et une pompe à ions. Tous ces composants sont conçus pour bloquer les gaz résiduaires réactifs, tout en offrant un environnement favorable à la basse pression pour permettre un dépôt fluide et efficace des matériaux. Le processus de dépôt lui-même est piloté par une puissante tête de douche rotative, un injecteur à pointe en diamant et un injecteur à boucle rotative. La tête de douche permet de maintenir des vitesses d'émission uniformes le long de la surface de la plaquette. L'injecteur à pointe de diamant peut fournir des taux plus élevés de dépôt de matière pour la formation de couches plus épaisses. Enfin, l'injecteur à boucle rotative permet d'assurer l'uniformité du processus de dépôt. Les trois méthodes de dépôt garantissent l'uniformité et la répétabilité des processus, ce qui améliore l'uniformité de l'épaisseur des couches. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 dispose d'un atout de conformité de processus leader dans l'industrie qui permet des résultats de processus optimaux. Ce modèle avancé de suivi des processus fournit en temps réel le suivi des processus et la détection des pannes. Il aide également à maintenir la cohérence de la production en fournissant des commentaires sur tout paramètre de processus hors tolérance qui pourrait entraîner une baisse du rendement ou une augmentation du taux de rebut. Dans l'ensemble, AMAT P5000 est un outil CVD polyvalent, fiable et robuste pour la fabrication de produits semi-conducteurs à haut volume. Avec sa capacité de production à grande vitesse, son excellente uniformité de dépôt et son contrôle des processus, APPLIED MATERIALS P-5000 est la solution idéale pour les produits de la plus haute qualité.